IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 |
10-2003-0051521
(2003-07-25)
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공개번호 |
10-2005-0012533
(2005-02-02)
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등록번호 |
10-0517643-0000
(2005-09-21)
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1020030051521
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발명자
/ 주소 |
- 송수창
/ 서울특별시강남구일원동***상록수아파트***-***
- 이배훈
/ 서울특별시중랑구상봉*동***-***/*
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출원인 / 주소 |
- 한국과학기술연구원 / 서울 성북구 하월곡동 **-*
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대리인 / 주소 |
-
박장원
(PARK, Jang Won)
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서울특별시 강남구 논현동 ***번지
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심사청구여부 |
있음 (2003-07-25) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
소멸 |
초록
본 발명은 수용액 중에서 온도 변화에 따라 솔-젤 거동을 나타내는, 화학식 1로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자, 이의 제조방법 및 이를 이용한 주입형 생분해성 온도 감응성 하이드로젤에 관한 것이다. [화학식 1]
대표청구항
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아래의 화학식 1 로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자:[화학식 1]식 중, R은 CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5 또는 C7H7, R'는 CH2COOC2H5 또는 CH(CH3)COOC2H5, R"는 OC2H5, NHCH2COOC2H5, NHCH2COOC7H7, NHCH(CH2CH(CH3)2)COOC2H5 또는 NHCH(CH(CH3)C2H5)COOC2H5 이고, a 와 b 는 각각 0.1 - 1.9 의 값을, c 와 d 는 각각 0 - 1.9 의 값을 가지며, a + b + c + d = 2.0 이고, n은 10 -
아래의 화학식 1 로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자:[화학식 1]식 중, R은 CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5 또는 C7H7, R'는 CH2COOC2H5 또는 CH(CH3)COOC2H5, R"는 OC2H5, NHCH2COOC2H5, NHCH2COOC7H7, NHCH(CH2CH(CH3)2)COOC2H5 또는 NHCH(CH(CH3)C2H5)COOC2H5 이고, a 와 b 는 각각 0.1 - 1.9 의 값을, c 와 d 는 각각 0 - 1.9 의 값을 가지며, a + b + c + d = 2.0 이고, n은 10 - 10000 이고, m은 10 - 50 이다.(1) 화학식 3으로 표시되는 폴리디클로로포스파젠을 화학식 4로 표시되는 아미노산 에틸에스테르와 1 : 0.1 - 1.9의 몰비로 반응시키는 단계, 및(2) 단계 (1)의 생성물을 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 화합물 0 - 1.9 당량과 반응시키는 단계, 및(3) 단계 (2)의 생성물을 남아있는 클로린기를 기준으로 하여 화학식 7로 표시되는 아미노메톡시폴리에틸렌글리콜 2 당량과 반응시키는 단계를 포함하는, 아래의 화학식 1로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법:[화학식 1][화학식 3][화학식 4][화학식 5][화학식 6][화학식 7]식 중, R은 CH2CH(CH3)2, CH(CH3)C2H5 또는 C7H7, R'는 CH2COOC2H5 또는 CH(CH3)COOC2H5, R"는 OC2H5, NHCH2COOC2H5, NHCH2COOC7H7, NHCH(CH2CH(CH3)2)COOC2H5 또는 NHCH(CH(CH3)C2H5)COOC2H5 이고,a 와 b 는 각각 0.1 - 1.9 의 값을, c 와 d 는 각각 0 - 1.9 의 값을 가지며, a + b + c + d = 2.0 이고, n은 10 - 10000 이고, m은 10 - 50 이다.제 2 항에 있어서, 각 단계의 반응 혼합물로부터 생성물을 정제하지 않고 다음 단계의 반응에 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 단계 (1)과 (3)의 반응에서는 테트라하이드로퓨란, 디옥산, 디메틸포름아미드, 클로로포름 및 톨루엔으로 구성된 군에서 선택되는 용매를, 상기 (2)의 반응에서는 아세토니트릴을 반응 용매로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 아미노메톡시폴리에틸렌글리콜의 분자량이 550 - 2500 인 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 2 항 또는 3항에 있어서, 단계 (3)의 반응이 완료된 후에, 반응 혼합물에 에틸에테르 또는 헥산을 가하여 침전을 생성시키고, 이를 여과하여 얻어지는 고체를 메탄올에 용해시킨 다음, 메탄올과 증류수로 각각 3 - 10일 동안 투석하고 저온 건조하여 순수한 화학식 1 화합물을 회수하는 단계를 추가적으로 포함하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 2 항에 있어서, 상기 화학식 4의 아미노산 에틸에스테르 화합물을 염화수소염의 형태로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 2 항에 있어서, 상기 화학식 6 또는 7 화합물을 옥살산염 또는 염화수소염의 형태로 사용하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 트리에틸아민 존재 하에서 반응을 수행하는 폴리포스파젠계 고분자의 제조방법.제 1 항에 따른 폴리포스파젠계 고분자가 완충용액, 산성용액, 염기성 용액, 염 용액 또는 물에 2 - 30 중량%의 농도로 용해된, 온도 변화에 따라 솔-젤 특성을 나타내는 주입형 의약 전달체용 온도 감응성 하이드로젤. <
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