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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0078493 (2003-11-03) |
공개번호 | 10-2004-0004207 (2004-01-13) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030078493 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-11-03) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 얼굴, 발꿈치, 손등의 각 질 제거 및 피부 미용용의 신체에 발라 사용을 하는 심층수로 된 스킨과, 로션, 크림, 스크럽이며 발명의 목적으로는 증류수 대신 심층수를 사용하여 피부 관리 및 각질 제거가 용이하게 되어지기 위한 화장품으로 사용하기 위함이며 발명의 구성으로는 스킨과 로션, 크림, 스크럽 화장품의 재료에 증류수 대신에 심층수를 포함 믹싱시켜 사용을 할 수 있도록 한 것이다. 이러한 심층수의 사용은 노폐 각질의 제거에 탁월하고 피부에 풍부한 산소의 공급과 침투 흡수력이 우수하고 각종 유기물들이 피부성질과 잘 융합이
스킨, 로션, 크림, 스크럽 화장품이 되어지게 되는 모든 각 구성물인 천연의 각종 과일류와 야채류, 열매, 씨, 줄기, 잎, 약초, 뿌리, 풀 등과 화학 물질인 글리세린, 알코올, 식초, 증류수, 방부제등을 이용하여 혼합이나 화합하여 아주 미세한 분말화를 도모하고 적정한 점도와 수분 및 유분을 유지하고 유체로 만들어 향과 색, 유체 형태로 제조하는 것에 심층수를 포함시켜 혼합이나 화합하여 스킨과, 로션, 크림, 스크럽 화장품이 되어지게 한 심층수를 사용한 스킨, 로션, 크림, 스크럽 화장품의 제조 방법.
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