초록

본 발명은 화장품 원료 물질에 관한 발명으로, TIO2, SIO2 또는 ZNO와 같은 무기분체를 폴리머 비드의 표면에 코팅하여 무기성 물질을 함유하는 화장품 원료물질을 제조 하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 상기 무기분체의 자외선 차단효과, 미백효과, 지분흡수 및 광 안정성과 같은 기능적 특성을 가짐과 동시에 무기분체의 낮은 사용감이 개선되고 화학적, 물리적으로 안정한 화장품 원료 물질 및 이를 이용한 화장품을 제공 할 수 있다.

대표청구항 ▼

ⅰ) 3-15㎛ 직경의 디메티콘(Dimethicone) 또는 비닐 디메티콘(Vinyl Dimethicone) 재질의 고분자 비드를 용매중에 10-30 중량퍼센트로 분산기를 이용하여 분산시키는 단계| ⅱ) 상기 분산액에 실리콘오일을 상기 고분자 비드의 1-3 중량 퍼센트로 첨가하여 분산시키는 단계| ⅲ) 상기 고분자 비드에 코팅하고자 하는 직경 10-300nm의 TiO2, SiO2 또는 ZnO를 포함하는 화장품 원료 무기 분체를 상기 고분자비드의 10-100 중량 퍼센트로 첨가하여 반응기에서 반응시키는 단계| 및 ⅳ) 상기 반응물을

ⅰ) 3-15㎛ 직경의 디메티콘(Dimethicone) 또는 비닐 디메티콘(Vinyl Dimethicone) 재질의 고분자 비드를 용매중에 10-30 중량퍼센트로 분산기를 이용하여 분산시키는 단계| ⅱ) 상기 분산액에 실리콘오일을 상기 고분자 비드의 1-3 중량 퍼센트로 첨가하여 분산시키는 단계| ⅲ) 상기 고분자 비드에 코팅하고자 하는 직경 10-300nm의 TiO2, SiO2 또는 ZnO를 포함하는 화장품 원료 무기 분체를 상기 고분자비드의 10-100 중량 퍼센트로 첨가하여 반응기에서 반응시키는 단계| 및 ⅳ) 상기 반응물을 고압 또는 저압 여과기로 여과 후, 40-50℃에서 건조하여 분쇄하는 단계를 포함하여 이루어지는 화장품 원료물질 제조방법.제 1항에 있어서, 상기 용매는 테트라하이드로푸란이고, 상기 무기 분체는 TiO2 또는 ZnO임을 특징으로 하는 제조방법제 1항 및 제 2항에 기재된 방법으로 제조되는 화장품 원료 물질.제 3항의 화장품 원료 물질을 유효성분으로 함유하여 제조되는 화장품.