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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0089966 (2003-12-11) |
공개번호 | 10-2004-0051540 (2004-06-18) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030089966 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-12-02) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
종입자(種粒子) 분산액에 소정 크기의 활성규산입자를 첨가하여 종입자를 신속하게 입자성장시킨다. 하기 (A)의 종입자 분산액에 하기 (B)의 활성규산입자 분산액을 가열하면서 연속적으로 혹은 단속적으로 첨가하여, 종입자에 활성규산입자를 부착시켜 입자성장시키는 것을 특징으로 하는 실리카졸의 제조방법. (A) 레이저광에 의한 동적 광산란법으로 측정한 평균입자지름(DLS)이 5∼ 1000NM의 범위에 있는 종입자의 수성분산액으로서, PH가 7∼12의 범위에 있는 종입자 분산액 (B) 레이저광에 의한 동적 광산란법으로 측정한 평균입자지름(
하기 (A)의 종입자 분산액에 하기 (B)의 활성규산입자 분산액을 가열하면서 연속적으로 혹은 단속적으로 첨가하여, 종입자에 활성규산입자를 부착시켜 입자성장시키는 것을 특징으로 하는 실리카졸의 제조방법. (A) 레이저광에 의한 동적 광산란법으로 측정한 평균입자지름(DLS)이 5∼ 1000NM의 범위에 있는 종입자의 수성분산액으로서, PH가 7∼12의 범위에 있는 종입자 분산액(B) 레이저광에 의한 동적 광산란법으로 측정한 평균입자지름(DLF)이 2∼ 50NM의 범위(단, 평균입자지름(DLF)은 평균입자지름(DLS)보다 작다)에 있고
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