최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2003-0097005 (2003-12-24) |
공개번호 | 10-2005-0065235 (2005-06-29) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030097005 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2007-02-28) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명의 목적은 아암 이동과정에서 장비 위로 떨어지는 현상액을 회수함으로써 현상액에 의한 장비의 파손이나 웨이퍼 손상을 방지할 수 있도록 된 반도체 웨이퍼 현상장비의 현상액 회수장치를 제공함에 있다. 이에 본 발명은 현상액 분사용 노즐이 설치된 아암을 이동시켜 캐치컵 내의 웨이퍼에 현상액을 분사하는 구조의 현상장비에 있어서, 상기 아암 대기위치에 설치된 드레인함과 캐치컵 사이에 노즐로부터 떨어지는 현상액을 포집하는 드레인덕트가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 현상장비의 현상액 회수장치를 제공한다
현상액 분사용 노즐이 설치된 아암을 이동시켜 캐치컵 내의 웨이퍼에 현상액을 분사하는 구조의 현상장비에 있어서, 상기 아암 대기위치에 설치된 드레인함과 캐치컵 사이에 노즐로부터 떨어지는 현상액을 포집하는 드레인덕트가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 현상장비의 현상액 회수장치.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.