IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-2003-7006833
(2003-05-20)
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공개번호 |
10-2003-0091942
(2003-12-03)
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등록번호 |
10-0811035-0000
(2008-02-29)
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국제출원번호 |
PCT/EP2001/013671
(2001-11-23)
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국제공개번호 |
WO2002042512
(2002-05-30)
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번역문제출일자 |
2003-05-20
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1020037006833
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발명자
/ 주소 |
- 와리셰 다비드
/ 벨기에 베-**** 브뤼셀 아브뉘 앙시앙 꽁바땅 **
- 반 에르크 카렐
/ 벨기에 베-**** 메셀렌 코닌긴 아스트리드란 **
- 반 리에르드 앙드레
/ 벨기에 베-**** 브뤼셀 아. 조세프 종강 **
- 게랭 나탈리
/ 벨기에 베-**** 루뱅-라-뇌브 뤼 샤를마뉴 */***
- 마티 에드와르
/ 벨기에 베-**** 웨테렌 셀데드리프 ** 부스 **
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출원인 / 주소 |
- 갈바 파워 그룹 엔.브이. / 벨기에 비-**** 헬렌 인더스트릭파크 ****
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대리인 / 주소 |
-
유미특허법인
(YOU ME Patent & Law Firm)
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서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 서림빌딩**층(유미특허법인)
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심사청구여부 |
있음 (2006-07-04) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
소멸 |
초록
본 발명은 60 내지 80 중량%의 염화아연(ZnCl2); 7 내지 20 중량%의 염화암모늄(NH4Cl); 2 내지 20 중량%의 적어도 하나의 알칼리 또는 알칼리토금속을 포함하는 유동성 변형제; 0.1 내지 5 중량%의 NiCl2, CoCl2, MnCl2 중 적어도 하나의 화합물; 및 0.1 내지 1.5 중량%의 PbCl2, SnCl2, BiCl3, SbCl3 중 적어도 하나의 화합물을 포함하는 용융 아연도금용 플럭스에 관한 것이다.
대표청구항
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· 60 내지 80 중량%의 염화아연(ZnCl2);· 7 내지 20 중량%의 염화암모늄(NH4Cl);· 2 내지 20 중량%의 적어도 하나의 알칼리 또는 알칼리토금속의 염;· 0.1 내지 5 중량%의 NiCl2, CoCl2, MnCl2 중 적어도 하나의 화합물; 및 · 0.1 내지 1.5 중량%의 PbCl2, SnCl2, BiCl3, SbCl3 중 적어도 하나의 화합물을 포함하는 용융 아연도금용 플럭스(flux).제1항에 있어서, ZnCl2의 함량이 70 내지 78 중량%인 용융 아연도금용 플럭스. 제1항 또는 제2항에 있어서, N
· 60 내지 80 중량%의 염화아연(ZnCl2);· 7 내지 20 중량%의 염화암모늄(NH4Cl);· 2 내지 20 중량%의 적어도 하나의 알칼리 또는 알칼리토금속의 염;· 0.1 내지 5 중량%의 NiCl2, CoCl2, MnCl2 중 적어도 하나의 화합물; 및 · 0.1 내지 1.5 중량%의 PbCl2, SnCl2, BiCl3, SbCl3 중 적어도 하나의 화합물을 포함하는 용융 아연도금용 플럭스(flux).제1항에 있어서, ZnCl2의 함량이 70 내지 78 중량%인 용융 아연도금용 플럭스. 제1항 또는 제2항에 있어서, NH4Cl의 함량이 11 내지 15 중량%인 용융 아연도금용 플럭스. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,PbCl2의 함량이 1 중량%인 용융 아연도금용 플럭스.제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 알칼리 또는 알칼리 토금속이 Li, Na, K, Rb, Cs, Be, Mg, Ca, Sr, 및 Ba로 이루어진 군으로부터 선택되는 용융 아연도금용 플럭스.제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,NaCl의 함량은 6 중량%이고 KCl의 함량은 2 중량%인 용융 아연도금용 플럭스.제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,NiCl2의 함량이 1 중량%인 용융 아연도금용 플럭스.물에 소정량이 용해된 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따르는 플럭스를 포함하는 용융 아연도금용 플럭스욕.제8항에 있어서,200 내지 700 g/ℓ, 바람직하게 350 내지 550 g/ℓ, 가장 바람직하게 500 내지 550 g/ℓ의 플럭스를 포함하는 용융 아연도금용 플럭스욕.제8항 또는 제9항에 있어서,50 내지 90℃, 바람직하게 60 내지 80℃, 가장 바람직하게 70℃의 온도에서 유지되는 용융 아연도금용 플럭스욕.제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,0.01 내지 2 부피% 농도의 비이온성 계면활성제를 포함하는 플럭스욕.철 또는 강의 물품을 용융 아연도금하는 방법으로,(a) 상기 물품을 탈지욕조에서 탈지시키는 단계;(b) 상기 물품을 세정하는 단계;(c) 상기 물품을 산세척하는 단계;(d) 상기 물품을 세정하는 단계;(e) 상기 물품을 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따르는 플럭스욕에서 처리하는 단계;(f) 상기 물품을 건조하는 단계;(g) 상기 물품을 용융 아연도금욕에 침지시켜 그 표면에 금속 코팅을 형성하는 단계;(h) 상기 물품을 냉각하는 단계를 포함하는 용융 아연도금 방법.제12항에 있어서,단계 (e)에서 상기 물품을 10분 이하, 바람직하게 5분 이하동안 플럭스욕에서 침지하는 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제13항에 있어서,단계 (f)에서, 상기 물품을 200 내지 350℃, 바람직하게 250℃ 온도의 공기에 의해 건조시키는 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,물품의 표면 온도가 단계 (g) 전에 170 내지 200℃인 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,도금욕조의 온도가 380 내지 700℃로 유지되는 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물품을 상기 도금욕에서 움직이게 하는 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 도금욕에 불활성 가스를 주입하는 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 물품은 단계 (a)에서 (h)까지 배치식으로 통과하는 개별 물품이거나; 또는 상기 물품은 단계 (a)에서 (h)까지 연속적으로 도입되는 와이어, 파이프, 또는 코일(시트)재인 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,상기 도금욕은 0 내지 56 중량%의 Al, 0 내지 1.6 중량%의 Si, 잔부에 필수적인 Zn을 포함하는 용융 아연도금 방법.제20항에 있어서, 상기 도금욕이 3-7 중량%의 Al, 0-3 중량%의 Mg, 및 0-0.1 중량%의 Na를 포함하는 용융 아연욕; 4.2-7.2 중량%의 Al 및 0.03-0.10 중량%의 미쉬 금속을 포함하는 용융 아연욕; 또는 55 중량%의 Al 및 1.6 중량%의 Si를 포함하는 용융 아연욕인 용융 아연도금 방법.제12항 내지 제21항에 있어서,상기 도금욕이 56 중량% 이하의 Al;0.005 내지 0.15 중량%의 Sb 및/또는 0.005 내지 0.15 중량%의 Bi;최대 0.005 중량%의 Pb, 최대 0.005 중량%의 Cd, 및 최대 0.002 중량%의 Sn; 및 잔부에 필수적인 Zn을 포함하는 용융 아연도금 방법.56 중량% 이하의 Al;0.005 내지 0.15 중량%의 Sb 및/또는 0.005 내지 0.15 중량%의 Bi;최대 0.005 중량%의 Pb, 최대 0.005 중량%의 Cd, 및 최대 0.002 중량%의 Sn; 및잔부에 필수적인 Zn을 포함하는 용융 아연도금욕.제23항에 있어서,4.2 내지 7.2 중량%의 Al; 0.005 내지 0.15 중량%의 Sb 및/또는 0.005 내지 0.15 중량%의 Bi; 최대 150 ppm의 Si; 최대 750 ppm의 Fe; 최대 0.005 중량%의 Cd; 최대 0.002 중량%의 Sn; 최대 0.005 중량%의 Pb; 및 잔부에 필수적인 Zn을 포함하는 용융 아연도금욕.제23항 또는 제24항에 있어서,0.005 내지 0.04 중량%의 Sb를 포함하는 용융 아연도금욕.<
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