[특허]토너 외첨제용 수지 비드 입자의 제조방법 및 상기외첨제를 포함하는 비자성 1성분 토너

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토너 외첨제용 수지 비드 입자의 제조방법 및 상기외첨제를 포함하는 비자성 1성분 토너 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	G03G-009/08
출원번호	10-2004-0000560 (2004-01-06)
공개번호	10-2005-0072515 (2005-07-12)
등록번호	10-0571923-0000 (2006-04-11)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020040000560
발명자 / 주소	이덕희 / 서울특별시송파구삼전동**-번지***호
출원인 / 주소	삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 매탄동 ***
대리인 / 주소	리앤목특허법인; 이해영 (Y.P.LEE, MOCK&PARTNERS) 서울 서초구 서초동***-번지 고려빌딩(리앤목 특허법인); 서울 서초구 서초동***-(리앤목 특허법인)
심사청구여부	있음 (2004-01-06)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록 ▼

토너 외첨제용 수지 비드 입자의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 수지 비드 입자의 제조방법은 스티렌계, 아크릴계, 에테르계, 에스테르계, 에폭시계, 이들의 블렌드 또는 공중합체에 대전제어제를 혼입하는 단계;상기 혼합물을 용융혼련한 후 냉각하는 단계; 및 상기 냉각된 혼합물을 분쇄-분급방법에 의해 미분쇄 및 분급함으로써 수지 비드 입자를 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 수지 비드 입자를 사용한 비자성 1성분 토너의 경우, 장시간의 화상인쇄시 포그 및 비산 발생을 억제하고, 현상효율과 토너의 내구성이 향상되어 고화질의 화상을 얻을 수 있었으며, 특히 클리닝성이 개선되기 때문에 인쇄 매수가 증가될수록 수직줄무늬 발생에 의한 화상오염이 현저히 줄어든다.

대표청구항

스티렌계, 아크릴계, 에테르계, 에스테르계, 에폭시계, 이들의 블렌드 또는 공중합체에 대전제어제를 혼입하는 단계; 상기 혼합물을 용융혼련한 후 냉각하는 단계; 및 상기 냉각된 혼합물을 분쇄-분급방법에 의해 미분쇄 및 분급함으로써 수지 비드 입자를 얻는 단계를 포함하는 토너 외첨제용 수지 비드 입자의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[일본] EXTERNAL ADDITIVE FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC TONER | TAMIYA HIROSHI, YAMAGISHI MASAYUKI, YAMAMOTO KAZUMI
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이 특허를 인용한 특허 (1)

[한국] 표면 개질에 의해 배경오염이 낮고 및 전사효율이 우수한 비자성 일성분 칼라토너 | 정재식, 이형진, 이창순
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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