초록 ▼

본 발명에서는, 질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 첨가제를 개시하고, 또한, 소각로에서 형성된 배가스가 상기 소각로에 연결된 덕트를 통과하는 동안, 상기 덕트내에, 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 환원제; 및 질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을, 혼합하여 또는 각각, 분사하

본 발명에서는, 질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 첨가제를 개시하고, 또한, 소각로에서 형성된 배가스가 상기 소각로에 연결된 덕트를 통과하는 동안, 상기 덕트내에, 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 환원제; 및 질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을, 혼합하여 또는 각각, 분사하는 단계(S1);를 포함하는 것을 특징으로 하는 덕트내 분사형 SNCR 공정을 개시하며, 또한, 소각로에서 형성된 배가스가 통과하는 덕트;를 포함하고, 상기 덕트의 내부로, 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 환원제 및 질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물을, 혼합하여 또는 각각, 분사하는 분사 장치;를 구비하는 것을 특징으로 하는 덕트내 분사형 SNCR 공정용 시스템을 개시한다. 본 발명의 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 첨가제, 이를 이용한 덕트내 분사형 SNCR 공정 및 그 시스템에 따르면, 종래의 SNCR 기술의 단점을 해결하여, 소각로등 연소실내를 벗어나 덕트 시스템의 배가스 흐름내에서 SNCR 반응을 유도함으로써, 직접적인 화염과 접촉하지 않게 하여 비교적 일정한 온도영역확보, 충분한 혼합영역 및 체류 시간을 확보하게 된다. 또한, 단면적이 넓은 소각로가 아니라, 상대적으로 단면적이 수십 내지 수백배 좁은 덕트에 환원제를 뿌려주어 접촉 효율을 높임으로써, 결국 질소 산화물의 제거 효율을 높일 수 있다. 또한, 종래에 SNCR 공정에 필요하였던 분무노즐의 수량도 대폭 줄여주게 된다. 또한, 다른 배연 탈질공정과 비교하여 환원제의 처리, 저장, 분사를 위한 단일 공정만이 필요하므로 공정 구성이 단순하고, 기존의 배기 가스 후처리 설비에 추가 공정의 설치없이 간단히 덕트와 분사 장치만을 추가할 수 있으므로, 그 적용성이 뛰어나고 기존의 시설에 대한 변형이 적어 비용이 절감되는 등, SNCR 공정을 고효율로 수행하면서도 소요 비용이 실질적으로 저감되는 효과를 달성하게 된다.

대표청구항

질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 첨가제.

질소산화물의 SNCR 반응에 첨가되어, 상기 SNCR 반응에 OH 또는 H 라디칼을 반응물로서 제공하는, NA기를 갖는 화합물;을 포함하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 SNCR 반응에 이용되는 첨가제.