초록 ▼

본 발명은 빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광한 후 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻고, 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만들며, 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하고 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하며, 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제

본 발명은 빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광한 후 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻고, 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만들며, 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하고 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하며, 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제2 스탬퍼 상에 정렬시켜 노광/현상한 후 리플로우 공정 처리하여 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 음각으로 하는 제3 스탬퍼를 제작한다. 그리고 상기 제3 스탬퍼를 금형으로 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 양각으로 하는 렌즈 제품을 사출한다.

대표청구항 ▼

빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광하는 제1 단계; 상기 노광된 기판을 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻는 제2 단계; 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만드는 제3 단계; 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하는 제4 단계; 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면

빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광하는 제1 단계; 상기 노광된 기판을 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻는 제2 단계; 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만드는 제3 단계; 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하는 제4 단계; 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제2 스탬퍼 상에 정렬시켜 노광하는 제6 단계; 상기 노광으로 상기 제2 스탬퍼의 구면 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트를 현상하고 리플로우 공정 처리하는 제7 단계; 상기 구면 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 음각으로 하는 제3 스탬퍼를 제작하는 제8 단계; 및 상기 제3 스탬퍼를 금형으로 상기 구면 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 양각으로 하는 렌즈 제품을 사출하는 제9 단계를 포함하는 다중층 마이크로 렌즈 제조 방법.