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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0034665 (2004-05-17) |
공개번호 | 10-2005-0109689 (2005-11-22) |
등록번호 | 10-0631745-0000 (2006-09-27) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040034665 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-05-17) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
균일한 입자 크기를 가지는 나노사이즈의 알루미나 분말을 저렴한 방법으로 제조하기 위해, 본 발명에서는 염화알루미늄(ALCL3, TRICHLOROALUMINUM, TCA)을 출발물질로 사용하여 화학기상증착(CVD : CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 방법에 의해 알루미나 분말을 제조한다. 즉, 염화알루미늄을 반응기(REACTOR) 내에 투입하는 단계; 반응기 내에서 염화알루미늄을, 산소를 포함하는 반응가스와 반응시켜 알루미나 분말을 합성하는 단계를 포함하여 알루미나 나노입자를 제조한다. 본 발명에 따라 제조된 알루미나
염화알루미늄(ALCL3, TRICHLOROALUMINUM, TCA)을 출발물질로 사용하고 화학기상증착(CVD : CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 방법에 의해 제조된 알루미나 분말.
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