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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0043196 (2004-06-11) |
공개번호 | 10-2005-0117922 (2005-12-15) |
등록번호 | 10-0562884-0000 (2006-03-14) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040043196 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-06-11) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명의 광촉매를 이용한 항균처리방법은 모재의 표면에 산소함유 입자들과 산소-탄소의 활성화 그룹의 입자들이 다량 함유된 플라즈마를 이용하여 표면처리를 하여 모재의 표면에 일정 깊이로 표면 에너지가 높은 표면활성층을 형성하는 단계와, 그 표면활성층이 형성된 모재의 표면에 광촉매를 졸 상태로 도포하여 표면활성층의 높은 활성도에 의해 광촉매의 반응이 증대되도록 하는 단계를 순차적으로 수행하여, 표면활성층이 형성된 모재의 표면에 TIO2 막을 코팅하여 항균처리를 함으로써, 모재 표면의 표면활성층에 의해 TIO2 막의 반응이 활발하게 진행
모재의 표면에 산소함유 입자들과 산소-탄소의 활성화 그룹의 입자들이 다량 함유된 플라즈마를 이용하여 표면처리를 하여 모재의 표면에 일정 깊이로 표면 에너지가 높은 표면활성층을 형성하는 단계와, 그 표면활성층이 형성된 모재의 표면에 광촉매를 졸 상태로 도포하여 광촉매 막을 형성시켜서 표면활성층의 높은 활성도에 의해 광촉매의 반응이 증대되도록 하는 단계, 를 순차적으로 수행하는 것을 특징으로 하는 광촉매를 이용한 항균처리방법.
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