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연합인증

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지하 연속벽 시공방법 및 톱니형 합벽 지하 연속벽 구조 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • E02D-005/20
출원번호 10-2004-0050260 (2004-06-30)
공개번호 10-2006-0001203 (2006-01-06)
등록번호 10-0758504-0000 (2007-09-07)
DOI http://doi.org/10.8080/1020040050260
발명자 / 주소
  • 박길석 / 서울특별시 서초구 방배동 ****-**
  • 이중재 / 경기도 고양시 일산구 마두동 *** (*-*) 강촌마을 동아아파 트 ***동 ****호
출원인 / 주소
  • 박길석 / 서울특별시 서초구 방배동 ****-**
대리인 / 주소
  • 이학수; 백남훈 (Lee, Hak Soo)
  • 부산 연제구 거제동 ****-* 세종빌딩 *** (이학수국제특허법률사무소); 서울 강남구 역삼동 ***-*****네트워크빌딩**층(한라국제특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2004-06-30)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 종래의 지하 연속벽 시공방법을 개선하여 지하 구조물의 안정성 확보 및 판넬 연결부위 누수현상을 구조적으로 완전히 차수할 수 있는 지하 연속벽 시공방법 및 톱니형 합벽 지하 연속벽 구조에 관한 것이다. 본 발명은 지하 연속벽의 각 단위 판넬을 순차적으로 단차지게 시공하는 공법을 기본적으로 적용하면서 수평철근 연결재의 사용, 오픈상태에서의 방수재를 시공하는 방식 등을 채용하여 현재 진행되고 있는 지하 연속벽의 구조적 문제점 및 트랜치 내의 수중 시공으로 인한 방수문제 등을 완전히 해결함으로써, 지

대표청구항

각각의 단위 판넬을 일렬로 나란하게 연속 시공하는 방법을 포함하는 지하 연속벽 시공방법에 있어서,상기 각각의 단위 판넬 간격만큼 거리를 유지하는 선행 판넬 시공 후 그 사이에 맞게 후행 판넬을 시공하되, 상기 선행 판넬과 후행 판넬을 순차적으로 내외측 단차지게 시공하는 단계와, 상기 단계 후 단차로 인해 조성되는 후행 판넬의 전면 내측 공간을 이용하여 양편의 선행 판넬을 수평철근으로 연결하는 동시에 판넬 연결부위에 방수재를 수직으로 설치하는 단계와, 상기 단계 후 수평철근과 방수재가 연결 및 설치되어 있는 내측 공간의 전면에 합벽

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 지하연속벽 누수방지를 위한 수팽창지수재 시공방법 및 시공구조 | 오창균, 윤현식
  2. [한국] 내진 지하연속벽 구조 | 조동진, 정창수, 박준용, 이정배, 강현준
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