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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0085681 (2004-10-26) |
공개번호 | 10-2006-0036631 (2006-05-02) |
등록번호 | 10-0614891-0000 (2006-08-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040085681 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-10-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 ITO 폐타겟과 같은 인듐 스크랩으로부터 불활성 기체 분위기하에서 인듐-주석 합금으로의 건식 환원을 거쳐 주석을 제거하는 1차 전해와 인듐을 고순도화하는 2차 전해 및 전해시 유입된 아연을 제거하는 진공정제로 구성된 인듐 회수 및 정제 방법에 관한 것이다. 본 발명은 인듐 산화물을 포함하는 스크랩을 환원하여 합금화하는 환원공정, 상기 합금을 양극으로 하고, 일염화인듐과 염화아연을 전해질로 하여 전해하는 용융염 전해공정, 상기 용융염 전해공정에서 얻은 정제 인듐용융물을 진공조에서 처리하여 높은
인듐 산화물을 포함하는 스크랩을 환원하여 합금화하는 환원공정; 상기 합금을 양극으로 하고, 일염화인듐과 염화아연을 전해질로 하여 전해하는 용융염 전해공정; 상기 용융염 전해공정에서 얻은 정제 인듐용융물을 진공조에서 처리하여 높은 증기압을 가진 불순물을 제거하는 진공정제공정; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 고순도 인듐 회수방법.
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