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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0086364 (2004-10-27) |
공개번호 | 10-2006-0037181 (2006-05-03) |
등록번호 | 10-0623995-0000 (2006-09-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040086364 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-10-27) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 저온 플라즈마 광촉매와 열촉매의 하이브리드 휘발성 유기화합물 제거시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 휘발성 유기화합물을 제거하기 위한 저온 플라즈마 광촉매장치에서 생성되어 배출되는 일산화탄소와, 플라즈마 방전으로 생성되어 인체에 치명적인 영향을 주는 오존을 동시에 제거할 수 있는 저온 플라즈마 광촉매와 열촉매의 하이브리드 휘발성 유기화합물 제거시스템에 관한 것이다. 본 발명은 휘발성 유기화합물이 포함된 오염공기에서 휘발성 유기화합물을 제거하기 위한 저온 플라즈마를 생성시키는 전극과, 상기 발
휘발성 유기화합물이 포함된 오염공기에서 휘발성 유기화합물을 제거하기 위한 저온 플라즈마를 생성시키는 전극과, 상기 발생된 플라즈마의 자외선을 광원으로 촉매작용을 하는 광촉매를 포함하는 휘발성 유기화합물 제거시스템에 있어서, 상기 플라즈마와 광촉매에 의해 발생된 일산화탄소를 완전산화반응에 의해 제거하는 귀금속촉매(60)와, 상기 귀금속촉매(60)를 통해 일산화탄소가 제거된 배기공기에서 잔존오존을 흡착하여 제거하는 오존처리촉매(70)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마 광촉매와 열촉매의 하이
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