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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0088891 (2004-11-03) |
공개번호 | 10-2005-0045831 (2005-05-17) |
등록번호 | 10-0690103-0000 (2007-02-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040088891 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-11-03) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 리포좀을 이용하여 물에 용해되지 않는 파이토스핑고신을 적게는 0.1%, 많게는 10%까지 안정화시킨 리포좀 조성물의 제조방법 및 그 리포좀 조성물을 포함하는 화장품 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 의한 파이토스핑고신 리포좀 조성물의 제조방법은, 파이토스핑고신을 물에 분산시킨 후 유산을 첨가하여 파이토스핑고신을 용해시키는 제1단계; 인지질을 용매에 용해시키는 제2단계; 상기 제1단계에서 제조된 용액과 상기 제2단계에서 제조된 용액을 혼합하는 제3단계; 상기 제3단계에서 형성된 혼합물을 유화하는 제4단계; 및 상기 제4단계
파이토스핑고신을 물에 분산시킨 후 유산을 첨가하여 파이토스핑고신을 용해시키는 제1단계; 인지질을 용매에 용해시키는 제2단계; 상기 제1단계에서 제조된 용액과 상기 제2단계에서 제조된 용액을 혼합하는 제3단계; 상기 제3단계에서 형성된 혼합물을 초음파 처리 또는 유화하는 제4단계; 및 상기 제4단계에서 처리 또는 유화된 혼합물을 압출하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파이토스핑고신 리포좀 조성물의 제조방법.
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