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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2004-0094221 (2004-11-17) |
| 공개번호 | 10-2006-0053778 (2006-05-22) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020040094221 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 분광 분석기를 이용한 파장 선정을 위한 시스템 및 그 방법에 관한 것이다. 파장 선정 시스템은 플라즈마 공정을 처리하는 공정 챔버와, 공정 챔버로부터 플라즈마 공정 시 방출되는 빛의 파장으로부터 플라즈마 내의 화학종의 성분을 분석, 확인하는 분광 분석기와, 공정 챔버로부터 플라즈마 공정 시 챔버 내의 가스에 포함되는 물질들의 질량을 분석하여 성분을 확인하는 질량 분석기 및, 분광 분석기 및 질량 분석기로부터 측정된 데이터를 받아서, 기울기 변동의 일치도가 높은 파장을 선정하는 처리부를 포함한다. 본 발명에 의하면, 플
플라즈마 공정에서의 파장을 선정하는 시스템에 있어서:상기 플라즈마 공정을 처리하는 공정 챔버와|상기 공정 챔버로부터 상기 플라즈마 공정 시 방출되는 빛의 파장으로부터 플라즈마 내의 화학종의 성분을 분석, 확인하는 분광 분석기와|상기 공정 챔버로부터 상기 플라즈마 공정 시 챔버 내의 가스에 포함되는 물질들의 질량을 분석하여 성분을 확인하는 질량 분석기 및|상기 분광 분석기 및 상기 질량 분석기로부터 측정된 데이터를 받아서, 기울기 변동의 일치도가 높은 파장을 선정하는 처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장 선정 시스템.제 1 항에
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