초록

본 발명은 대형화된 피처리체의 경우에도 플라즈마 균일도를 확보할 수 있는 플라즈마 표면 처리장치를 제공하는 데 그 목적이 있다. 이를 위하여, 본 발명은 챔버와, 상기 챔버 내의 적어도 일측에 배설된 적어도 하나의 이온 소스와, 피처리체를 탑재하는 트레이와, 상기 이온 소스에 대향되도록 상기 트레이를 이송하는 이송기구를 포함하고, 상기 이온 소스는 상기 트레이가 정지되었을 때에 이온 분사를 하도록 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치를 제공한다.

대표청구항 ▼

챔버|상기 챔버 내의 적어도 일측에 배설된 적어도 하나의 이온 소스|피처리체를 탑재하는 트레이| 및상기 이온 소스에 대향되도록 상기 트레이를 이송하는 이송기구|를 포함하고,상기 이온 소스는 상기 트레이가 정지되었을 때에 이온 분사를 하도록 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 트레이는 지면에 수직하게 배설된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 이송 기구는,상기 트레이의 하측에 구비되는 구동부|상기 트레이의 상방 양측을 지지하는 상측 가이드| 및상기 챔버 내에서 소정의

챔버|상기 챔버 내의 적어도 일측에 배설된 적어도 하나의 이온 소스|피처리체를 탑재하는 트레이| 및상기 이온 소스에 대향되도록 상기 트레이를 이송하는 이송기구|를 포함하고,상기 이온 소스는 상기 트레이가 정지되었을 때에 이온 분사를 하도록 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 트레이는 지면에 수직하게 배설된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 이송 기구는,상기 트레이의 하측에 구비되는 구동부|상기 트레이의 상방 양측을 지지하는 상측 가이드| 및상기 챔버 내에서 소정의 위치에 정지되는 트레이를 승강시키도록 상기 트레이의 하측에 구비되는 승강부| 를 포함하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 트레이에는 복수개의 고정 홀이 구비되고,상기 정지된 트레이를 고정시키는 트레이 홀더를 더 포함하며,상기 트레이 홀더는 상기 고정 홀에 삽입되는 복수개의 고정 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 트레이 홀더는, 트레이 측으로 자력을 제공하는 보조 합착 기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제1항에 있어서, 상기 이온 소스는 이온 건인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제6항에 있어서, 상기 이온 건과 상기 피처리체의 사이에 중간 전극이 더 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제 7 항에 있어서,상기 중간 전극에는 전압을 인가할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.제 7 항에 있어서,상기 중간 전극은 그리드 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치.