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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2004-0111234 (2004-12-23) |
| 공개번호 | 10-2006-0072560 (2006-06-28) |
| 등록번호 | 10-0629934-0000 (2006-09-22) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020040111234 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2004-12-23) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법을 제공하기 위한 것으로,TMAH 현상폐액을 양이온 교환수지에 의해 TMA+ 이온과 페놀을 분리하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 양이온 수지를 물로 세정하는 제 2 단계와; 상기 제 2 단계 후 양이온 교환수지에 포착된 TMA+ 이온을 상기 양이온 교환수지로부터 용리하기 위하여 용리액을 투여하는 제 3 단계와; 상기 제 3 단계에서 용리된 TMAC를 음이온 교환수지에 의해 TMAH로 변환하여 재생하는 제 4단계로 구성된다.
TMAH 현상폐액을 양이온 교환수지에 의해 TMA+ 이온과 페놀을 분리하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 양이온 수지를 물로 세정하는 제 2 단계와; 상기 제 2 단계 후 양이온 교환수지에 포착된 TMA+ 이온을 상기 양이온 교환수지로부터 용리하기 위하여 용리액을 투여하는 제 3 단계와; 상기 제 3 단계에서 용리된 TMAC를 음이온 교환수지에 의해 TMAH로 변환하여 재생하는 제 4단계로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트를 함유하는 TMA
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