초록 ▼

본 발명은 저압 라디칼 산화 공정에 사용되는 라디칼 산화 장치에 있어서, 특히, 튜브 내에 샤워 플레이트(SHOWER PLATE)를 구비시키고 가스라인(GAS LINE)을 변형하여 웨이퍼의 산화 박막에 높은 농도의 니트로겐(NITROGEN)을 균일하게 조합시킬 수 있는 라디칼 산화 장치에 관한 것이다.본 발명에 따른 라디칼 산화 장치는 내부에 수용된 웨이퍼를 라디칼 산화하는 장치로서, 상기 웨이퍼를 유지하고, 웨이퍼의 온도를 유지하는 가열척을 내부에 갖고 있는 상부가 밀봉된 튜브와; 상기 튜브 내에 위치되고, 상기 튜브의 밀봉된 상

본 발명은 저압 라디칼 산화 공정에 사용되는 라디칼 산화 장치에 있어서, 특히, 튜브 내에 샤워 플레이트(SHOWER PLATE)를 구비시키고 가스라인(GAS LINE)을 변형하여 웨이퍼의 산화 박막에 높은 농도의 니트로겐(NITROGEN)을 균일하게 조합시킬 수 있는 라디칼 산화 장치에 관한 것이다.본 발명에 따른 라디칼 산화 장치는 내부에 수용된 웨이퍼를 라디칼 산화하는 장치로서, 상기 웨이퍼를 유지하고, 웨이퍼의 온도를 유지하는 가열척을 내부에 갖고 있는 상부가 밀봉된 튜브와; 상기 튜브 내에 위치되고, 상기 튜브의 밀봉된 상부와 소정공간 이격된 위치에 구비된 샤워 플레이트와; 상기 튜브 내벽에 위치되고, 가스를 주입받아 상기 샤워 플래이트의 상부로 상기 가스를 분출하는 가스라인을 포함한다.

대표청구항

내부에 수용된 웨이퍼를 라디칼 산화하는 장치로서,상기 웨이퍼를 유지하고, 웨이퍼의 온도를 유지하는 가열척을 내부에 갖고 있는 상부가 밀봉된 튜브와;상기 튜브 내에 위치되고, 상기 튜브의 밀봉된 상부와 소정공간 이격된 위치에 구비된 샤워 플레이트와;상기 튜브 내벽에 위치되고, 가스를 주입받아 상기 샤워 플래이트의 상부로 상기 가스를 분출하는 가스라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 라디칼 산화 장치.

내부에 수용된 웨이퍼를 라디칼 산화하는 장치로서,상기 웨이퍼를 유지하고, 웨이퍼의 온도를 유지하는 가열척을 내부에 갖고 있는 상부가 밀봉된 튜브와;상기 튜브 내에 위치되고, 상기 튜브의 밀봉된 상부와 소정공간 이격된 위치에 구비된 샤워 플레이트와;상기 튜브 내벽에 위치되고, 가스를 주입받아 상기 샤워 플래이트의 상부로 상기 가스를 분출하는 가스라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 라디칼 산화 장치.