[특허]폐스티로폼 재생 시스템

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	B29B-017/00
출원번호	10-2005-0097245 (2005-10-15)
공개번호	10-2007-0041646 (2007-04-19)
등록번호	10-0756313-0000 (2007-08-31)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020050097245
발명자 / 주소	최명재 / 대전 유성구 어은동 한빛아파트 *동 호 김성보 / 대전 유성구 어은동 한빛아파트 동 호 이상봉 / 대전 유성구 어은동 한빛아파트 동 *호 윤병태 / 대전 서구 월평동 황실아파트 동 **호
출원인 / 주소	한국화학연구원 / 대전 유성구 장동 ***번지
대리인 / 주소	이학수; 백남훈 (Lee, Hak Soo) 서울특별시 강남구 역삼동 *-ㅣ*네트워크빌딩층 한라국제특허법률사무소; 서울 강남구 역삼동 *-*네트워크빌딩층(한라국제특허법률사무소)
심사청구여부	있음 (2005-10-15)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록 ▼

본 발명은 폐스티로폼을 용매를 이용하여 용해시켜 감용한 다음, 감용된 폐스티로폼(폴리스티렌)을 재생수지, 사진액자틀, 욕실발판, 건축용 합성목재 등의 원료로 사용할 수 있는 펠릿으로 제조할 수 있도록 한 폐스티로폼 재생 시스템에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명은 용매를 이용하여 폐스티로폼을 용해시켜 감용시키는 감용장치와, 감용처리된 폐스티로폼을 재생수지, 사진액자, 욕실발판, 건축용 합성목재 등의 제조 원료 및 스티렌모노머 회수를 위한 폴리스티렌 열분해의 원료로 사용하기 위한 펠릿을 제조하는 펠릿 제조 장치로 구성하고, 이러한 감

본 발명은 폐스티로폼을 용매를 이용하여 용해시켜 감용한 다음, 감용된 폐스티로폼(폴리스티렌)을 재생수지, 사진액자틀, 욕실발판, 건축용 합성목재 등의 원료로 사용할 수 있는 펠릿으로 제조할 수 있도록 한 폐스티로폼 재생 시스템에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명은 용매를 이용하여 폐스티로폼을 용해시켜 감용시키는 감용장치와, 감용처리된 폐스티로폼을 재생수지, 사진액자, 욕실발판, 건축용 합성목재 등의 제조 원료 및 스티렌모노머 회수를 위한 폴리스티렌 열분해의 원료로 사용하기 위한 펠릿을 제조하는 펠릿 제조 장치로 구성하고, 이러한 감용장치와 펠릿 제조 장치를 트럭과 같은 차량에 탑재하여 폐스티로폼의 발생 지역으로 이동하여서 작업할 수 있도록 한 폐스티로폼 재생 시스템을 제공하고자 한 것이다.

대표청구항

용매를 이용하여 폐스티로폼을 용해시켜 감용시키는 감용장치와;상기 감용장치로부터 배출된 감용상태의 폐스티로폼을 펠릿으로 제조하기 위한 펠릿 제조장치로 구성된 폐스티로폼 재생 시스템.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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