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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0101576 (2005-10-27) |
등록번호 | 10-0665880-0000 (2007-01-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050101576 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2005-10-27) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 터널발파에 있어서 전자뇌관과 비전기뇌관을 조합하여 배열함으로써 발파효율을 높일 수 있도록 하는 발파시스템 및 발파방법에 관한 것이다.본 발명은 전자뇌관과 비전기뇌관을 조합한 발파시스템에 있어서, 굴착지반의 암반 물성 조건에 따라 구획된 일구역에 전자뇌관 연결모선으로 연결설치되는 전자뇌관; 상기 전자뇌관이 배치되지 않은 기타 구역에 비전기뇌관 연결모선으로 연결설치되는 비전기뇌관; 상기 비전기뇌관 연결모선과 상기 전자뇌관의 연결모선에 상호 연결되어 전자뇌관과 비전기뇌관을 연결하는 0MS 전자뇌관; 및 상기 전자뇌관 연결모선의
전자뇌관과 비전기뇌관을 조합한 발파시스템에 있어서, 굴착지반의 암반 물성 조건에 따라 구획된 일구역에 전자뇌관 연결모선으로 연결설치되는 전자뇌관;상기 전자뇌관이 배치되지 않은 기타 구역에 비전기뇌관 연결모선으로 연결설치되는 비전기뇌관;상기 비전기뇌관 연결모선과 상기 전자뇌관의 연결모선에 상호 연결되어 전자뇌관과 비전기뇌관을 연결하는 0MS 전자뇌관; 및 상기 전자뇌관 연결모선의 말단에 연결설치되어 전자뇌관과 비전기뇌관을 지연시차를 두고 발파시키는 전자뇌관 발파기를 포함하되,상기 전자뇌관은 터널의 심발공에 연결설치되고,상기 비전기뇌관
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