오다 시게루
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
가와바타 에이지
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
모리 다카아키
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
탄 턍 키에
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
스미토모 히로시
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
나카가와 요시토
/ 일본 오사카후 이바라키시 이츠카이치 *쵸메 **방 **고 산코가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소
산코 가부시키가이샤 / 일본 후쿠오카켕 구루메시 도리마치 *반치노 **
대리인 / 주소
특허법인코리아나
(Koreana Patent Firm)
서울특별시 강남구 역삼동 ***-**
심사청구여부
있음 (2006-03-30)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록▼
용적 효율이 양호하며, 또 단시간에 미립자화된 증감제 분산체를 제조하고, 그 분산체가 보관ㆍ저장 안정성이 우수하고, 또한 그 증감제 분산체를 사용함으로써, 고감도이고, 표면의 오염이 거의 없으며, 더구나 기록 이미지의 보존 안정성이 양호한 감열 기록체를 제공한다. 본 발명은 유화분산제수 중의 감열 기록체용 증감제를, 가열용융 하에 유화 미립자화하고, 이어서 미립자화한 유화 분산체를 급랭하에 결정화시키는 것을 특징으로 하는 증감제 분산체의 제조방법이다. 그 증감제는, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페
용적 효율이 양호하며, 또 단시간에 미립자화된 증감제 분산체를 제조하고, 그 분산체가 보관ㆍ저장 안정성이 우수하고, 또한 그 증감제 분산체를 사용함으로써, 고감도이고, 표면의 오염이 거의 없으며, 더구나 기록 이미지의 보존 안정성이 양호한 감열 기록체를 제공한다. 본 발명은 유화분산제수 중의 감열 기록체용 증감제를, 가열용융 하에 유화 미립자화하고, 이어서 미립자화한 유화 분산체를 급랭하에 결정화시키는 것을 특징으로 하는 증감제 분산체의 제조방법이다. 그 증감제는, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, P-벤질비페닐, 옥살산 디-P-메틸벤질, Β-나프틸벤질에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 말한다.
대표청구항▼
유화 분산제수 중의 감열 기록체용 증감제를, 가열 용융하에 유화 미립자화하고, 이어서 미립자화한 유화 분산체를 급랭 하에 결정화시키는 것을 특징으로 하는 증감제 분산체의 제조 방법.그 증감제란, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, p-벤질비페닐, 옥살산 디-p-메틸벤질, β-나프틸벤질에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 말한다.제 1 항에 있어서, 증감제 유화 분산체를 급랭 하에 결정화시키고, 그 급랭 후의 도달 온도가 50℃ 이하인 증감제 분산체의 제조 방법
유화 분산제수 중의 감열 기록체용 증감제를, 가열 용융하에 유화 미립자화하고, 이어서 미립자화한 유화 분산체를 급랭 하에 결정화시키는 것을 특징으로 하는 증감제 분산체의 제조 방법.그 증감제란, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, p-벤질비페닐, 옥살산 디-p-메틸벤질, β-나프틸벤질에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 말한다.제 1 항에 있어서, 증감제 유화 분산체를 급랭 하에 결정화시키고, 그 급랭 후의 도달 온도가 50℃ 이하인 증감제 분산체의 제조 방법.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 증감제와 유화 분산제의 혼합 고형분 농도가 10∼65질량% 이고, 평균 입자직경이 3㎛ 이하가 되도록 유화 미립자화하는 것을 특징으로 하는 증감제 분산체의 제조 방법.제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해서 얻어지는 증감제 분산체.제 4 항에 기재된 증감제 분산체와, 감열 기록체용 염료 또는 감열 기록체용 현색제를 습식 분쇄하는 것을 특징으로 하는 감열 기록체용 혼합 분산체의 제조 방법.제 5 항에 기재된 제조 방법에 의해서 얻어지는 증감제 분산체와 감열 기록체용 염료의 혼합 분산체 및 그 증감제 분산체와 감열 기록체용 현색제의 혼합 분산체.지지체면 상에, 제 4 항에 기재된 증감제 분산체 또는 제 6 항에 기재된 감열 기록체용 혼합 분산체를 함유하는 감열 기록층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 감열 기록체.제 7 항에 있어서, 염료가, 3-N,N-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N,N-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N,N-디아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N,N-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-(N-이소아밀-N-에틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-p-톨릴-N-에틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-이소펜틸-N-에틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-시클로헥실-N-메틸)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N,N-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란 및 3,3-비스(4-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것을 특징으로 하는 감열 기록체.제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 현색제가, 4,4``-디히드록시디페닐술폰, 2,4``-디히드록시디페닐술폰, 4-히드록시-4``-이소프로폭시디페닐술폰, 비스(3-알릴-4-히드록시페닐)술폰, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐티오에톡시)메탄, 비스(4-히드록시페닐티오에틸)에테르, 4,4``-시클로헥실리덴디페놀, 4-벤질옥시-4``-히드록시디페닐술폰, 4-알릴옥시-4``-히드록시디페닐술폰, p-히드록시벤조산벤질, 3,5-디(α-메틸벤질)살리실산 및 그 아연염, 2,4-비스(페닐술포닐)페놀, 2,4-비스(페닐술포닐)-5-메틸페놀, 4-히드록시벤젠술포아닐리드, 톨루엔디이소시아네이트와 디아미노디페닐술폰 및 페놀과의 반응 혼합물, 4,4``-비스(p-톨루엔술포닐아미노카르보닐아미노)-디페닐메탄, p-톨루엔술포닐아미노카르보아닐리드, α,α``-비스{4-(P-히드록시페닐술폰)페녹시}-p-자일렌, 2,2-비스(히드록시메틸)-1,3-프로판디올의 중축합물과 4-히드록시벤조산과의 탈수축합물, 4,4``-{옥시비스(에틸렌옥시-P-페닐렌술포닐)}디페놀에서 선택되는 적어도 1 종인 것을 특징으로 하는 감열 기록체.
발명자의 다른 특허 :
연구과제 타임라인
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이 특허를 인용한 특허 (1)
[한국]
스테아르산아미드를 주성분으로 하는 감열 기록체용 증감제 미립자 분산체, 그 제조 방법, 감열 기록층용 혼합 분산체 조성물 및 감열 기록체 |
탄 챵키,
나카가와 요시토
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