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아데노신 및 유용성 감초 추출물의 리포좀 기술을 이용한안정화 기술 및 이를 함유하는 화장료 조성물과 그의제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • A61K-008/60
  • A61K-008/97
  • A61K-008/14
출원번호 10-2006-0017043 (2006-02-22)
등록번호 10-0670440-0000 (2007-01-10)
DOI http://doi.org/10.8080/1020060017043
발명자 / 주소
  • 한충섭 / 충남 천안시 성정동 *** 선경아파트 *동 ****호
  • 김종천 / 충남 아산시 염치읍 방현리 창우아파트 ***호
  • 박진희 / 충남 아산시 염치읍 방현리 창우아파트 ***호
출원인 / 주소
  • 포쉬에화장품 주식회사 / 충남 아산시 음봉면 소동리 **-**
심사청구여부 있음 (2006-02-22)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 아데노신 및 유용성 감초 추출물 함유 리포좀을 함유하는 화장료 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 화장료 조성물은 총 조성물 중량의 1.0-10.0%의 레시틴, 조성물 총 중량의 0.1-2.0%의 세라마이드, 조성물 총 중량의 0.1-5.0%의 토코페릴아세테이트, 조성물 총 중량의 0.01-4.0%의 아데노신, 조성물 총 중량의 0.01-5.0%의 유용성 감초 추출물, 조성물 총 중량의 0.1-1.0%의 씨트릭애씨드로 이루어진 리포좀, 조성물 총 중량의 0.1%-40.0%의 유화안정보조제로서의 글리세린을

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 두충 추출물과 아데노신을 함유하는 피부 주름 개선용화장료 조성물 | 안기웅, 조병기, 최민희
  2. [한국] 경피 흡수 촉진용 리포좀을 포함하는 조성물이 적용된 마스크 시트 | 홍소영, 주광식, 이경관
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