선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
출원번호 | 10-2006-0053533 (2006-06-14) |
등록번호 | 10-0776826-0000 (2007-11-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060053533 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2006-06-14) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
이리듐 착물의 제조방법이 제공된다.본 발명에 따른 이리듐 착물의 제조방법은 반응시간이 빠르기 때문에 공정효율이 우수하며 부산물의 생성이 억제되어 수율이 높다는 장점이 있다.
대표청구항이 없습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.