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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0070177 (2006-07-26) |
등록번호 | 10-0740995-0000 (2007-07-12) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060070177 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-07-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치에 관한 것으로, 나노 임프린트 공정에서 스템프(Mask)에 가공된 패턴을 기판(Wafer)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오
나노 임프린트 공정에서 스템프(MASK)에 가공된 패턴을 기판(WAFER)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오차에 따라 상기 스템프와 상기 기판을 정렬시키기 위한 구동제어부, 및 상기 오차검출시스
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