초록 ▼

본 발명은 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치에 관한 것으로, 나노 임프린트 공정에서 스템프(Mask)에 가공된 패턴을 기판(Wafer)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오

본 발명은 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치에 관한 것으로, 나노 임프린트 공정에서 스템프(Mask)에 가공된 패턴을 기판(Wafer)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오차에 따라 상기 스템프와 상기 기판을 정렬시키기 위한 구동제어부, 및 상기 오차검출시스템에서 산출되는 오차를 입력받아 상기 구동제어부로 신호를 인가하는 장치제어부로 이루어지는 나노 임프린트 공정의 기판 정렬장치에 있어서, 상기 오차검출시스템은 상기 스템프와 기판 각각에 지름이 다른 복수 개의 원이 일정 피치를 가지고 동심원 형태로 배열되는 격자를 적어도 2개 이상 형성하고, 이 스템프 격자와 기판 격자가 중첩되어 발생하는 모아레 무늬를 영상으로 획득한 후 수학적 알고리즘을 통해 해석하여 오차값을 산출하는 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

나노 임프린트 공정에서 스템프(MASK)에 가공된 패턴을 기판(WAFER)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오차에 따라 상기 스템프와 상기 기판을 정렬시키기 위한 구동제어부, 및 상기 오차검출시스

나노 임프린트 공정에서 스템프(MASK)에 가공된 패턴을 기판(WAFER)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오차에 따라 상기 스템프와 상기 기판을 정렬시키기 위한 구동제어부, 및 상기 오차검출시스템에서 산출되는 오차를 입력받아 상기 구동제어부로 신호를 인가하는 장치제어부로 이루어지는 나노 임프린트 공정의 기판 정렬장치에 있어서,상기 오차검출시스템은 상기 스템프와 기판 각각에 지름이 다른 복수 개의 원이 일정 피치를 가지고 동심원 형태로 배열되는 격자를 적어도 2개 이상 형성하고, 이 스템프 격자와 기판 격자가 중첩되어 발생하는 모아레 무늬를 영상으로 획득한 후 수학적 알고리즘을 통해 해석하여 오차값을 산출하는 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치.