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밀착력이 향상된 드라이 필름 포토레지스트 수지 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G03F-007/032
  • G03F-007/004
출원번호 10-2006-0082381 (2006-08-29)
공개번호 10-2008-0019888 (2008-03-05)
DOI http://doi.org/10.8080/1020060082381
발명자 / 주소
  • 조승제 / 경기 용인시 구성읍 마북리 ***-*
  • 한국현 / 경기 광주시 초월읍 쌍동리 롯데 낙천대아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 코오롱 / 경기 과천시 별양동 *-**
대리인 / 주소
  • 김능균 (KIM, Nung Kyun)
  • 서울 서초구 서초동 ****-* 허브원빌딩 ***호 김능균국제특허법률사무소
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명의 알릴 글리시딜 에테르를 포함하는 공중합체를 고분자 결합제로 사용한 드라이 필름 포토레지스트 수지 조성물은 화학적 및 물리적 밀착력이 향상되어 기존 드라이 필름으로는 내성이 부족했던 특수 금속에 대한 에칭 레지스트로서의 역할이 가능하여, 몰리브텐, 스테인레스강(Stainless Steel), 니켈, 알로이 42(니켈/철 합금), 크롬, 인듐/틴 산화물 등에 잘 적용되어 케미칼 밀링(Chemical Milling) 용으로의 용도를 증대시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

드라이 필름 포토레지스트용 수지 조성물에 있어서, 고분자 결합제는 알릴 글리시딜 에테르를 포함하는 공중합체인 것을 특징으로 하는 드라이 필름 포토레지스트용 수지 조성물.제 1항에 있어서, 상기 고분자 결합제는 전체 드라이 필름 포토레지스트용 수지 조성물 중 15 내지 40 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 포토레지스트용 수지 조성물.제 1항에 있어서, 상기 알릴 글리시딜 에테르의 함량은 상기 고분자 결합제 고형분 함량 중 5 내지 50중량%인 것을 특징으로 하는 드라이 필름 포토레지스트용 수지 조성물.제 1항에 있

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