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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2006-0090136 (2006-09-18) | |
공개번호 | 10-2008-0025531 (2008-03-21) | |
등록번호 | 10-1249990-0000 (2013-03-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060090136 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-09-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 LCD(Liquid Crystal Display) 및 반도체 제조공정에서 사진식각기술을 이용한 패턴 형성시 사용되는 에칭액의 폐액으로서 주로 인듐과 주석을 함유한 에칭폐액으로부터 산을 회수하고 인듐과 주석을 분리 회수하는 방법에 관한 것이다.본 발명은 ITO(Indium Tin Oxide) 에칭폐액을 여과하여 불용성 불순물을 제거하는 단계; 상기 마이크로 필터의 여과 액을 진공증발로 산을 회수하는 단계; 상기 진공증발 후 잔류 액에 가성소다 등의 알카리를 투입하여 금속 불순물만을 수산화물로 만들어 침전, 분리하는 단계;
ITO(Indium Tin Oxide) 에칭폐액을 여과하여 고형분 불순물을 제거하는 단계; 상기 여과액에서 진공 증발법을 이용하여 산을 회수하는 단계; 상기 산의 회수 후 잔류액에 알카리를 투입하여 금속성 불순물만을 수산화물로 침전 및 분리하는 단계; 상기 금속성 불순물을 제거한 정제용액으로부터 전해채취법으로 인듐 및 주석을 분리 회수하는 단계를 포함하는 ITO 에칭폐액으로부터 산을 회수하고 인듐 및 주석을 회수하는 방법.
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