초록 ▼

본 발명은 질산, 불산, 초산에 실리콘이 함유된 혼산 형태의 에칭 폐액에서 실리콘을 침전 분리하고 초산을 추출 분리하여 잔존하는 질산, 불산의 혼산 폐액을 스테인레스강의 산세액으로 재활용할 수 있도록 해주는 실리콘이 함유된 반도체 에칭 폐액의 재생방법을 제공하는데 그 목적이 있다.상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기술구성은, 질산, 불산, 초산 및 실리콘으로 이루어진 반도체 에칭 폐액에 알칼리금속 화합물 또는 알칼리토금속 화합물을 투입하여 불화실리콘산(H2SiF6) 형태로 존재하는 실리콘을 불화규산염으로 침전시켜 분리하는

본 발명은 질산, 불산, 초산에 실리콘이 함유된 혼산 형태의 에칭 폐액에서 실리콘을 침전 분리하고 초산을 추출 분리하여 잔존하는 질산, 불산의 혼산 폐액을 스테인레스강의 산세액으로 재활용할 수 있도록 해주는 실리콘이 함유된 반도체 에칭 폐액의 재생방법을 제공하는데 그 목적이 있다.상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기술구성은, 질산, 불산, 초산 및 실리콘으로 이루어진 반도체 에칭 폐액에 알칼리금속 화합물 또는 알칼리토금속 화합물을 투입하여 불화실리콘산(H2SiF6) 형태로 존재하는 실리콘을 불화규산염으로 침전시켜 분리하는 침전 단계; 상기 침전 단계 후 잔존하는 질산, 불산, 초산으로 이루어진 혼산 폐액에 탄소수 4~12의 알코올 추출제를 혼합하여 추출제 내에 상기 초산을 선택적으로 추출되도록 하는 추출 단계; 및, 상기 추출 단계 후 초산이 함유된 추출제를 분별증류를 통해 초산을 분리하고 남아있는 추출제는 상기 추출 단계로 이송하여 재사용되도록 하는 분별증류 단계로 이루어진다.

대표청구항 ▼

질산, 불산, 초산 및 실리콘으로 이루어진 반도체 에칭 폐액에 알칼리금속 화합물을 투입하여 불화실리콘산(H2SIF6) 형태로 존재하는 실리콘을 불화규산염(M2SIF6, M은 알칼리금속)으로 침전시켜 분리하는 침전 단계;상기 침전 단계 후 잔존하는 질산, 불산, 초산으로 이루어진 혼산 폐액에 탄소수 4~12의 알코올 추출제를 혼합하여 추출제 내에 상기 초산을 선택적으로 추출되도록 하는 추출 단계; 및,상기 추출 단계 후 초산이 함유된 추출제를 분별증류를 통해 초산을 분리하고 남아있는 추출제는 상기 추출 단계로 이송하여 재사용되도록 하

질산, 불산, 초산 및 실리콘으로 이루어진 반도체 에칭 폐액에 알칼리금속 화합물을 투입하여 불화실리콘산(H2SIF6) 형태로 존재하는 실리콘을 불화규산염(M2SIF6, M은 알칼리금속)으로 침전시켜 분리하는 침전 단계;상기 침전 단계 후 잔존하는 질산, 불산, 초산으로 이루어진 혼산 폐액에 탄소수 4~12의 알코올 추출제를 혼합하여 추출제 내에 상기 초산을 선택적으로 추출되도록 하는 추출 단계; 및,상기 추출 단계 후 초산이 함유된 추출제를 분별증류를 통해 초산을 분리하고 남아있는 추출제는 상기 추출 단계로 이송하여 재사용되도록 하는 분별증류 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 실리콘이 함유된 반도체 에칭 폐액의 재생방법.