초록

사진 재료에 사용하기 위한 사진용 할로겐화은 에멀션 내의 적색-감광성 3중핵 메로시아닌 염료 및 화학식 1에 따른 오스뮴 도펀트의 사용은 현저한 속도 손실 없이 시간에 대한 에멀션 내의 속도 게인의 감소 및/또는 방지를 가져온다.화학식 1[OS(NZ)L5]R상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,R은 0, -1, -2 또는 -3이다.

대표청구항 ▼

사진 재료에 사용하기 위한 사진용 할로겐화은 에멀션으로서, 상기 할로겐화은 에멀션이 적색 감광성 3중핵 메로시아닌 염료 및 하기 화학식 1에 따른 오스뮴 도펀트를 포함하는 사진용 할로겐화은 에멀션.화학식 1[Os(NZ)L5]r상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,r은 0, -1, -2 또는 -3이다.제 1 항에 있어서,상기 오스뮴 도펀트가 [Os(NO)Cl5]2-인 사진용 할로겐화은 에멀션.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 적색 감광성 염료가 600 내지 690 nm의 범위의 방사광에 대하여 상기 할로겐화은 에

사진 재료에 사용하기 위한 사진용 할로겐화은 에멀션으로서, 상기 할로겐화은 에멀션이 적색 감광성 3중핵 메로시아닌 염료 및 하기 화학식 1에 따른 오스뮴 도펀트를 포함하는 사진용 할로겐화은 에멀션.화학식 1[Os(NZ)L5]r상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,r은 0, -1, -2 또는 -3이다.제 1 항에 있어서,상기 오스뮴 도펀트가 [Os(NO)Cl5]2-인 사진용 할로겐화은 에멀션.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 적색 감광성 염료가 600 내지 690 nm의 범위의 방사광에 대하여 상기 할로겐화은 에멀션에 감광성을 부여하는 사진용 할로겐화은 에멀션.제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 적색 감광성 3중핵 메로시아닌 염료가 하기 화학식 2에 따른 화합물인 사진용 할로겐화은 에멀션.화학식 2상기 식에서,X는 S 또는 Se이고|R1, R2, R3, R4 및 R5는 독립적으로 수소, 알킬, 치환된 알킬, 알케닐, 치환된 알케닐, 아릴, 치환된 아릴 또는 수용화기(water solubilizing group)를 갖는 유기 라디칼이고, R1, R2, R3, R4 및 R5의 적어도 두 멤버(단, R3와 R4가 함께인 경우는 제외)는 독립적으로 수용화기를 갖는 유기 라디칼이고|R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, 알킬기, 치환된 알킬기, 알케닐기, 치환된 알케닐기, 알콕시기, 치환된 알콕시기, 알킬티오기, 치환된 알킬티오기, 아릴티오기, 치환된 아릴티오기, 아릴기, 치환된 아릴기, 아실기, 치환된 아실기, 아실옥시기, 치환된 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환된 알콕시카르보닐기, 알킬술포닐기, 치환된 알킬술포닐기, 카바모일기, 치환된 카바모일기, 설파모일기를 나타내거나, 또는 R6 및 R7은, 동일하거나 상이할 수 있고 R6 및 R7가 독립적으로 나타낼 수 있는 상기 치환기들로부터 선택되는 하나 이상의 치환기를 포함할 수 있는 아넬레이트된(annellated) 카르보사이클릭 고리 시스템을 완성하기 위해 필요한 원자들을 함께 나타낸다.제 4 항에 있어서,X가 S이고,R1 및 R2가 각각 독립적으로 수용화기를 갖는 유기 라디칼이고,R3이 알킬기 또는 치환된 알킬기이고,R4가 수소이고,R5가 알킬기, 치환된 알킬기, 또는 수용화기를 갖는 유기 라디칼이고,R6 및 R7이 예를 들면, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리 시스템과 같이 아넬레이트된 카르보사이클릭 고리 시스템을 완성하기 위해 필요한 원자들을 함께 나타내는 사진용 할로겐화은 에멀션.제 4 항에 있어서,상기 3중핵 메로시아닌 염료가 하기 화학식 3, 4 및 5에 따른 화합물들로부터 선택되는 사진용 할로겐화은 에멀션.화학식 3화학식 4화학식 5제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,R3이 2 이상의 탄소 원자를 갖는 알킬기인 사진용 할로겐화은 에멀션.제 7 항에 있어서,R3이 에틸, 프로필 및 이소프로필로부터 선택되는 알킬기인 사진용 할로겐화은 에멀션.제 8 항에 있어서,상기 3중핵 메로시아닌 염료가 하기 화학식 3 또는 화학식 4에 따른 화합물인 사진용 할로겐화은 에멀션.화학식 3화학식 4제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 감광성 염료가 상기 할로겐화은 에멀션 내에 은의 몰당량당 150 내지 500 mg의 양으로 존재하는 할로겐화은 에멀션.제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 오스뮴 도펀트가 상기 할로겐화은 에멀션 내에 은의 몰당량당 10-10 내지 10-5 몰의 양으로 존재하는 할로겐화은 에멀션.제 11 항에 있어서,상기 오스뮴 도펀트가 할로겐화은 에멀션 내에 은의 몰당량당 5×10-8 내지 1×10-6 몰의 양으로 존재하는 할로겐화은 에멀션.제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,이리듐 도펀트를 더 포함하는 할로겐화은 에멀션.제 13 항에 있어서,상기 이리듐 도펀트가 [IrCl6]2-인 할로겐화은 에멀션.제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,상기 이리듐 도펀트가 상기 할로겐화은 에멀션 내에 은의 몰당량당 10-10 내지 10-5 몰의 양으로 존재하는 할로겐화은 에멀션.제 15 항에 있어서,상기 이리듐 도펀트가 할로겐화은 에멀션 내에 은의 몰당량당 5×10-8 내지 1×10-6 몰의 양으로 존재하는 할로겐화은 에멀션.제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,염화은을 적어도 50 몰% 포함하는 은 클로로브로마이드 에멀션인 할로겐화은 에멀션.제 17 항에 있어서,염화은을 60 내지 80 몰% 포함하는 할로겐화은 에멀션.제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 할로겐화은 에멀션을 포함하는 사진 재료.제 19 항에 있어서,고 콘트라스트 그래픽 예술 필름인 사진 재료.제 19 항에 있어서,인쇄 회로 기판의 제조에 사용되는 필름인 사진 재료.사진용 지지체 위에 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 따른 할로겐화은 에멀션을 코팅하는 단계를 포함하는 사진 재료의 제조 방법.제 21 항의 사진 재료 위에 전자회로 레이아웃 패턴을 이미지대로 노광하는 단계, 노광된 사진 재료를 현상하여 포토마스크를 제조하는 단계, 포토마스크를 인쇄 회로 기판 기재와 접촉하도록 위치시키는 단계, 상기 마스크를 통해 상기 인쇄 회로 기판 기재를 노광시키는 단계, 및 노광된 상기 인쇄 회로 기판 기재를 처리하는 단계를 포함하는 인쇄 회로 기판의 제조 방법.적색-감광성 사진용 할로겐화은 에멀션의 시간에 따른 속도 게인(gain)의 범위를 감소시키거나 방지하기 위한 방법으로서,상기 방법이 상기 할로겐화은 에멀션 내에 3중핵 메로시아닌 염료 및 하기 화학식 1의 오스뮴 도펀트를 포함시키는 단계를 포함하는 방법.화학식 1[Os(NZ)L5]r상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,r은 0, -1, -2 또는 -3이다.제 24 항에 있어서,상기 오스뮴 도펀트가 [Os(NO)Cl5]인 방법.제 24 항 또는 제 25 항에 있어서,상기 할로겐화은 에멀션이 제 4 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 3중핵 메로시아닌 염료를 포함하는 방법.제 24 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 할로겐화은 에멀션 내에 이리듐 도펀트를 포함시키는 단계를 더 포함하는 방법.제 27 항에 있어서,상기 이리듐 도펀트가 [IrCl6]2-인 방법.제 24 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 할로겐화은 에멀션이 염화은을 적어도 50 몰% 포함하는 클로로브로마이드 에멀션인 방법.할로겐화은 에멀션의 시간에 따른 속도 변화를 최소화하기 위해 하기 화학식 1에 따른 오스뮴 도펀트를 적색 감광성 3중핵 메로시아닌 염료와 결합하여 사용하는 용도.화학식 1[Os(NZ)L5]r상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,r은 0, -1, -2 또는 -3이다.제 30 항에 있어서,상기 3중핵 메로시아닌 염료가 제 4 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 것인 용도.콘트라스트를 원하는 수준으로 유지하면서, 할로겐화은 에멀션내에 시간에 따른 속도 게인의 범위를 감소시키거나 방지하기 위해 하기 화학식 1에 따른 오스뮴 도펀트 및 이리듐 도펀트를 적색 감광성 3중핵 메로시아닌 염료와 결합하여 사용하는 용도.화학식 1[Os(NZ)L5]r상기 식에서,Z는 황 또는 산소이고,L은 리간드이고,r은 0, -1, -2 또는 -3이다.