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[한국특허] 입자 측정 시스템 및 이를 사용한 입자 측정 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/66
  • G01N-015/02
  • G01N-021/47
출원번호 10-2007-0024115 (2007-03-12)
공개번호 10-2008-0083485 (2008-09-18)
등록번호 10-0929868-0000 (2009-11-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020070024115
발명자 / 주소
  • 최원호 / 대전 유성구 신성동 대림두레아파트 ***동 ***호
  • 선창래 / 전남 고흥군 동강면 유둔리 ***-**
  • 채길병 / 서울 동대문구 이문*동 삼성래미안아파트*차 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 한국표준과학연구원 / 대전 유성구 도룡동 *
대리인 / 주소
  • 이평우 (Lee Pyung Woo)
  • 서울 강남구 역삼동 ***-** 유니온 센타 빌딩 ****호 대지국제특허법률사무소
심사청구여부 있음 (2007-03-16)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

입자 측정 시스템을 제공한다. 이 측정 시스템은 입사광을 방출시키기 위한 광 방출부, 광 방출부로부터 방출된 입사광을 제 1 방향 성분으로 편광시키는 제 1 편광부, 제 1 편광부에 의해 편광된 제 1 방향 성분의 입사광을 1차원 광으로 변환시키는 광 변환부, 1차원 광과 입자의 충돌에 의해 생성된 산란광의 제 1 방향 성분만을 통과시키는 제 2 편광부 및 제 2 편광부에 의해 통과된 제 1 방향 성분의 산란광을 검출하기 위한 광 검출부를 포함한다.

대표청구항

입사광을 방출시키기 위한 광 방출부;상기 광 방출부로부터 방출된 상기 입사광을 제 1 방향 성분으로 편광시키는 제 1 편광부;상기 제 1 편광부에 의해 편광된 제 1 방향 성분의 입사광을 1차원 광으로 변환시키는 광 변환부;상기 1차원 광과 입자의 충돌에 의해 생성된 산란광의 상기 제 1 방향 성분만을 통과시키는 제 2 편광부; 및상기 제 2 편광부에 의해 통과된 상기 제 1 방향 성분의 산란광을 검출하기 위한 광 검출부를 포함하는 입자 측정 시스템.제 1항에 있어서,상기 입사광은 레이저 광인 것을 특징으로 하는 입자 측정 시스템.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [미국] Characterization of particles by modulated dynamic light scattering | Hutchins Darrell K. (Conway AR) Dahneke Barton E. (Palmyra NY)
  2. [한국] 반도체의 제조방법과 플라즈마 처리방법 및 그 장치 | 나카타도시히코, 니노미야다카노리, 우토사치오, 나카노히로유키
  3. [일본] LASER AXIS ADJUSTING DEVICE | IZAWA MASAHITO
  4. [일본] DEVICE FOR MEASURING CONCENTRATION OF TRACE AMOUNT OF MATTER | IKUTA SAKAE, TAKAHASHI MASAO, TERAI KIYOHISA, UCHIDA YUTAKA, SAKANO MINA

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 입자 사이즈 측정 장치 및 측정 방법 | 미사와 도모나리
  2. [한국] 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치 | 윤주영, 김민중, 소종호, 최은미, 김하영, 맹선정
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