초록

본 발명에 관한 유리 성형용 금형은, 모재와, 이리듐과 레늄을 포함하여 모재에 형성되는 이형박막을 포함하고, 이형박막에 포함되는 레늄의 양은 모재의 표면에서 멀어질수록 감소한다. 이형박막의 표면에 포함되는 이리듐의 함량이 높게 조절될 수 있으므로, 고온 경도 및 상온 경도가 향상되어, 고온의 프레스 성형이 반복되어도 금형의 이형 성능이 안정적으로 유지될 수 있다. 또한 이형박막에는 레늄이 첨가되어 이형박막의 인성과 기계적 강도를 향상시키므로, 이형박막에 손상이 잘 발생하지 않아 메인티넌스의 주기가 현저히 감소된다.

대표청구항 ▼

모재; 및이리듐과 레늄을 포함하여 상기 모재에 형성되는 이형박막을 포함하고, 상기 이형박막에 포함되는 상기 레늄의 양은 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 감소하는 유리 성형용 금형.제 1 항에 있어서, 상기 이형박막에 포함되는 상기 이리듐의 양은 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 증가하는 유리 성형용 금형.제 2 항에 있어서, 상기 모재로부터 멀어짐에 따라 상기 이형박막에 포함된 상기 이리듐이나 상기 레늄의 양이 연속적으로 변화하는 유리 성형용 금형.제 2 항에 있어서, 상기 이형박막은 복수 개의 박막층들이 적층되어 형성되고, 상기 이

모재; 및이리듐과 레늄을 포함하여 상기 모재에 형성되는 이형박막을 포함하고, 상기 이형박막에 포함되는 상기 레늄의 양은 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 감소하는 유리 성형용 금형.제 1 항에 있어서, 상기 이형박막에 포함되는 상기 이리듐의 양은 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 증가하는 유리 성형용 금형.제 2 항에 있어서, 상기 모재로부터 멀어짐에 따라 상기 이형박막에 포함된 상기 이리듐이나 상기 레늄의 양이 연속적으로 변화하는 유리 성형용 금형.제 2 항에 있어서, 상기 이형박막은 복수 개의 박막층들이 적층되어 형성되고, 상기 이리듐과 상기 레늄의 양은 상기 박막층마다 다르게 포함되며, 상기 모재의 표면으로부터 멀리 배치될수록 상기 박막층에 포함되는 상기 이리듐의 양은 증가하고 상기 레늄의 양은 감소하는 유리 성형용 금형.제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형박막에 포함된 상기 레늄의 양은 5 원자 퍼센트 내지 45 원자 퍼센트의 범위에서 변화하는 유리 성형용 금형.제 5 항에 있어서, 상기 이형박막에 포함된 상기 이리듐의 양은 55 원자 퍼센트 내지 95 원자 퍼센트의 범위에서 변화하는 유리 성형용 금형.제 1항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모재와 상기 이형박막의 사이에, 금속 원소를 증착하여 형성되는 금속 중간층을 더 포함하는 유리 성형용 금형.제 7 항에 있어서, 상기 이형박막과 상기 금속 중간층의 사이에, 금속 질화물을 포함하는 확산 방지막을 더 포함하는 유리 성형용 금형.모재를 가공하는 단계;상기 모재에 금속 원소를 증착하여 금속 중간층을 형성하는 단계; 및상기 금속 중간층에 이리듐과 레늄을 포함하는 이형박막을 형성하되, 상기 이형박막에 포함되는 상기 레늄의 양이 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 감소하고, 상기 이리듐의 양은 상기 모재의 표면에서 멀어질수록 증가하도록 상기 이형박막을 형성하는 단계를 포함하는 유리 성형용 금형의 제조방법.제 9 항에 있어서,상기 이형박막을 형성하는 단계는 이리듐을 포함하는 제1 타겟과, 레늄을 포함하는 제2 타겟을 이용하는 스퍼터링법에 의해 수행되며, 상기 제1 타겟과 상기 제2 타겟에 공급되는 전류를 각각 독립적으로 제어하여 상기 이형박막에 포함되는 상기 이리듐과 상기 레늄의 양을 조절하는 전류제어단계를 포함하는 유리 성형용 금형의 제조방법.제 10 항에 있어서,상기 전류제어단계는,상기 모재로부터 멀어짐에 따라 상기 이형박막에 포함된 상기 이리듐이나 상기 레늄의 양이 연속적으로 변하도록 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟에 공급되는 전류를 제어하는 유리 성형용 금형의 제조방법.제 10 항에 있어서,상기 전류제어단계는,상기 모재로부터 멀어짐에 따라 상기 이형박막에 포함된 상기 이리듐이나 상기 레늄의 양이 불연속적으로 변하도록 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟에 공급되는 전류를 제어하는 유리 성형용 금형의 제조방법.제 9 항에 있어서,상기 이형박막을 형성하는 단계는 이리듐-레늄 합금을 포함하는 복수 개의 합금 타겟을 이용하는 스퍼터링법에 의해 수행되며, 상기 합금 타겟에 공급되는 전류를 제어하여 상기 이형박막에 포함되는 상기 이리듐과 상기 레늄의 양을 조절하는 전류제어단계를 포함하는 유리 성형용 금형의 제조방법.