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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-0045402 (2007-05-10) |
공개번호 | 10-2008-0099616 (2008-11-13) |
등록번호 | 10-0875712-0000 (2008-12-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070045402 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-05-10) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
높은 증착 속도로 양질의 결정화 실리콘막 증착이 가능한 막 증착 장치 및 막 증착 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 막 증착 장치는, 내부에 기판이 장입되며 상압으로 유지되는 챔버, 반응 가스를 챔버 내에 도입하는 가스 공급계, 도입되는 반응 가스를 해리시키기 위하여 열을 방출하는 발열체, 및 기판에 전기장을 인가하기 위한 전기장 인가부를 포함한다. 본 발명에 따른 막 증착 방법은 이러한 막 증착 장치를 이용하며, 챔버에 기판을 장입하고 반응 가스를 도입하는 단계, 발열체를 이용하여 반응 가스를 해리시키는 단계, 해리된 반응 가
내부에 기판이 장입되며 상압으로 유지되는 챔버;반응 가스를 상기 챔버 내에 도입하는 가스 공급계;도입되는 상기 반응 가스를 해리시키기 위하여 열을 방출하는 발열체; 및상기 기판에 전기장을 인가하기 위한 전기장 인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 막 증착 장치.
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