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연합인증

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[한국특허] 저온 플라즈마 처리 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B29C-059/14
출원번호 10-2007-0049534 (2007-05-22)
공개번호 10-2007-0113133 (2007-11-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020070049534
발명자 / 주소
  • 호시다, 시게히로 / 일본 이바라끼껭 가미스시 도와다 *반지 신에쓰 가가꾸 고교가부시끼가이샤 엔비·고분시 자이료 겡뀨쇼 내
  • 스즈끼, 신지 / 일본 이바라끼껭 가미스시 도와다 *반지 신에쓰 가가꾸 고교가부시끼가이샤 엔비·고분시 자이료 겡뀨쇼 내
  • 아마노, 다다시 / 일본 이바라끼껭 가미스시 도와다 *반지 신에쓰 가가꾸 고교가부시끼가이샤 엔비·고분시 자이료 겡뀨쇼 내
출원인 / 주소
  • 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
대리인 / 주소
  • 장수길; 위혜숙 (CHANG, Soo Kil)
  • 서울 종로구 내자동 세양빌딩 (김.장법률사무소); 서울 종로구 신문로*가 ***번지 흥국생명빌딩*층(김.장법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

필름에 손상을 주지 않고 필름의 치수 안정성을 유지하면서 저온 플라즈마에 의해 표면을 개질 처리할 수 있는, 긴 연속 필름의 저온 플라즈마 처리 장치를 제공한다.필름의 표면을 개질 처리하기 위한 장치는 필름을 연속적으로 권출하는 권출 장치를 구비한 제1 진공 용기, 플라즈마 처리하는 제2 진공 용기, 및 플라즈마 처리 후의 필름을 연속적으로 권취하는 권취 장치를 구비한 제3 진공 용기를 갖고, 각 진공 용기가 필름의 유동 방향으로 접속되어 있는 것을 특징으로 한다.

대표청구항

플라스틱 필름의 표면을 개질 처리하기 위한 장치이며, 플라스틱 필름을 연속적으로 권출하는 권출 장치를 구비한 제1 진공 용기, 플라즈마 처리를 행하는 제2 진공 용기, 및 플라즈마 처리 후의 플라스틱 필름을 연속적으로 권취하는 권취 장치를 구비한 제3 진공 용기를 갖고, 각 진공 용기가 플라스틱 필름의 유동 방향으로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마 처리 장치.

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