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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-0049534 (2007-05-22) |
공개번호 | 10-2007-0113133 (2007-11-28) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070049534 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
필름에 손상을 주지 않고 필름의 치수 안정성을 유지하면서 저온 플라즈마에 의해 표면을 개질 처리할 수 있는, 긴 연속 필름의 저온 플라즈마 처리 장치를 제공한다.필름의 표면을 개질 처리하기 위한 장치는 필름을 연속적으로 권출하는 권출 장치를 구비한 제1 진공 용기, 플라즈마 처리하는 제2 진공 용기, 및 플라즈마 처리 후의 필름을 연속적으로 권취하는 권취 장치를 구비한 제3 진공 용기를 갖고, 각 진공 용기가 필름의 유동 방향으로 접속되어 있는 것을 특징으로 한다.
플라스틱 필름의 표면을 개질 처리하기 위한 장치이며, 플라스틱 필름을 연속적으로 권출하는 권출 장치를 구비한 제1 진공 용기, 플라즈마 처리를 행하는 제2 진공 용기, 및 플라즈마 처리 후의 플라스틱 필름을 연속적으로 권취하는 권취 장치를 구비한 제3 진공 용기를 갖고, 각 진공 용기가 플라스틱 필름의 유동 방향으로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 저온 플라즈마 처리 장치.
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