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[한국특허] 표면이 개질된 임플란트 제조 방법 및 그에 의해 제조된임플란트
Method of fabricating implant with improved surface properties and implant fabiricated by the same method
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • A61C-008/00
출원번호 10-2007-0072298 (2007-07-19)
등록번호 10-0775537-0000 (2007-11-05)
DOI http://doi.org/10.8080/1020070072298
발명자 / 주소
  • 박진우 / 대구 북구 침산*동 ***-** 명성푸르지오 ***-****
출원인 / 주소
  • (주)오스테오필 / 대구 중구 삼덕동*가 ***-* 경북대학교치과대학 ***
  • 박진우 / 대구 북구 침산*동 ***-** 명성푸르지오 ***-****
대리인 / 주소
  • 한지희; 권영규; 윤재석 (Han Ji Hee)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 남창빌딩 *층 ***호(프라임특허법률사무소); 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 남창빌딩 *층 ***호(프라임특허법률사무소); 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** 남창빌딩 *층 ***호(프라임특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2007-07-19)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

표면이 개질된 임플란트 제조 방법 및 그에 의해 제조된 임플란트가 제공된다. 표면이 개질된 임플란트의 제조 방법은 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하는 기재를 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나를 포함하는 전해질 용액에 침적하는 단계, 및 온도, 압력 및 시간 조건에 의한 수열 반응을 통하여 침적되어 있는 기재의 표면에 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나와 상기 기재의 타이타늄 또는 타이타늄 합금이 반응하여, 마이크로 단위의 미세 거칠기가 형성된 표면 구조를 갖는 산화막층을 형성하는

대표청구항

타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하는 기재를 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나를 포함하는 전해질 용액에 침적하는 단계; 및온도, 압력 및 시간 조건에 의한 수열 반응을 통하여 상기 침적되어 있는 기재의 표면에 상기 인산염 또는 불소 이온, 및 상기 스트론튬 이온 중 적어도 하나와 상기 기재의 타이타늄 또는 타이타늄 합금이 반응하여, 마이크로 단위의 미세 거칠기가 형성된 표면 구조를 갖는 산화막층을 형성하는 단계를 포함하는 표면이 개질된 임플란트 제조 방법.

이 특허를 인용한 특허 (2) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [한국] 임플란트의 표면처리방법 및 그 방법에 의해 표면처리된 임플란트 | 박진우
  2. [한국] 임플란트의 표면처리방법 | 하경원, 최규옥

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