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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-0072298 (2007-07-19) |
등록번호 | 10-0775537-0000 (2007-11-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070072298 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-07-19) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
표면이 개질된 임플란트 제조 방법 및 그에 의해 제조된 임플란트가 제공된다. 표면이 개질된 임플란트의 제조 방법은 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하는 기재를 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나를 포함하는 전해질 용액에 침적하는 단계, 및 온도, 압력 및 시간 조건에 의한 수열 반응을 통하여 침적되어 있는 기재의 표면에 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나와 상기 기재의 타이타늄 또는 타이타늄 합금이 반응하여, 마이크로 단위의 미세 거칠기가 형성된 표면 구조를 갖는 산화막층을 형성하는
타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하는 기재를 인산염 또는 불소 이온, 및 스트론튬 이온 중 적어도 하나를 포함하는 전해질 용액에 침적하는 단계; 및온도, 압력 및 시간 조건에 의한 수열 반응을 통하여 상기 침적되어 있는 기재의 표면에 상기 인산염 또는 불소 이온, 및 상기 스트론튬 이온 중 적어도 하나와 상기 기재의 타이타늄 또는 타이타늄 합금이 반응하여, 마이크로 단위의 미세 거칠기가 형성된 표면 구조를 갖는 산화막층을 형성하는 단계를 포함하는 표면이 개질된 임플란트 제조 방법.
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