본 발명은 플라스틱 광학렌즈의 제조에 사용할 수 있는 경량성 고굴절 수지 및 이를 이용한 광학렌즈에 관한 것으로, 특히 폴리티올 화합물과 폴리디이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻은 광학렌즈용 수지로 굴절률이 높아 렌즈의 가장자리 두께를 얇게 할 수 있으면서도 고상 비중이 낮고 아울러 내충격성, 성형성, 염색성, 광투과율, 아베수 등의 광학특성이 우수한 수지 및 이를 이용한 광학렌즈에 관한 것이다. 본 발명에서는 에테르기를 가진 폴리티올 화합물과 폴리디이소시아네이트를 반응시켜 얻어진 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지가 제공된다.
대표청구항▼
하기 화학식 1로 표시되는 에테르기를 가진 폴리티올 화합물과 폴리디이소시아네이트를 반응시켜 얻어진 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.[화학식 1] X = 탄소수가 10개 미만인 알킬렌(alkylene)Y = 2차 알코올 이상의 다가알코올L = 1∼3, m = 0∼10, n = 0∼10, 단 m과 n은 동시에 0 이 아님청구항 1에 있어서, 상기 폴리티올 화합물 30∼70 중량%와 폴리디이소시아네이트 30∼70 중량%를 반응시켜 얻어진 고상 굴절률(nD, 20℃) 1.572∼1.632, 액상 굴절률 1.520∼1.570, 고상 비중 1.
하기 화학식 1로 표시되는 에테르기를 가진 폴리티올 화합물과 폴리디이소시아네이트를 반응시켜 얻어진 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.[화학식 1] X = 탄소수가 10개 미만인 알킬렌(alkylene)Y = 2차 알코올 이상의 다가알코올L = 1∼3, m = 0∼10, n = 0∼10, 단 m과 n은 동시에 0 이 아님청구항 1에 있어서, 상기 폴리티올 화합물 30∼70 중량%와 폴리디이소시아네이트 30∼70 중량%를 반응시켜 얻어진 고상 굴절률(nD, 20℃) 1.572∼1.632, 액상 굴절률 1.520∼1.570, 고상 비중 1.15∼1.29, 고상 수지의 아베수 32∼50, 액상 점도(20℃) 5∼800cps의 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 2에 있어서, 상기 폴리티올 화합물과 폴리디이소시아네이트의 반응 혼합물 전체 중량에 대하여 자외선 흡수제 0.0007∼9 중량%; 내부이형제 0.0001∼10 중량% 및 중합개시제 0.0001∼10 중량%를 혼합 반응시킨 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 3에 있어서, 상기 반응 혼합물은 활성화 수소화합물을 더 포함하며, 상기 폴리티올 화합물과 활성화 수소화합물을 합친 혼합물에 대한 폴리디이소시아네이트의 사용 비율은 (NCO)/(OH+SH)의 관능기 몰비가 0.5∼3.0의 범위인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 4에 있어서, 상기 활성화 수소화합물은 펜타에리트리톨테트라키스머캅토프로피오네이트; 펜타에리트리톨테트라키스메캅토아세테이트; 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 중에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.[화학식 4]청구항 3 또는 4에 있어서, 상기 자외선 흡수제는 2-(2'-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐) -2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2,4-디히드록시벤조페논; 2-히드록시-4-메톡시벤조페논; 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 4-도데실옥시-2-히드록시벤조페논; 4-벤조록시-2-히드록시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논; 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 3 또는 4에 있어서, 상기 이형제는 산성 인산에스테르 또는 산성 포스폰산에스테르 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 7에 있어서, 상기 산성 인산에스테르는, 이소프로필산포스페이트; 디이소프로필산포스페이트; 부틸산포스페이트; 옥틸산포스페이트; 디옥틸산포스페이트; 이소데실산포스페이트; 디이소데실산포스페이트; 트리데칸올산포스페이트; 비스(트리데칸올산)포스페이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 2에 있어서, 상기 중합개시제로 주석계 또는 아민계 화합물을 사용하는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.청구항 9에 있어서, 상기 주석계 화합물은, 부틸틴디라우레이트; 디부틸틴디클로라이드; 디부틸틴디아세테이트; 옥칠산 제1주석; 디라우르산디부틸주석; 테트라플루오르주석; 테트라클로로주석; 테트라브로모주석; 테트라아이오드주석; 메틸주석트리클로라이드; 부틸주석트리클로라이드; 디메틸주석디클로라이드; 디부틸주석디클로라이드; 트리메틸주석클로라이드; 트리부틸주석클로라이드; 트리페닐주석클로라이드; 디부틸주석술피드; 디(2-에틸섹실)주석옥사이드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지.(a) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 삼플루오르화 붕소에 에피클로로히드린을 적하시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 디올을 얻는 단계;(b) 상기 디올을 수산화나트륨 존재하에서 메르캅토에탄올과 반응시켜서 테트라올을 얻는 단계;(c) 상기 테트라올에 티오우레아를 넣고 반응시켜 이소우로늄염 및 이소티오우로늄염을 얻는 단계; (d) 상기 이소우로늄염 및 이소티오우로늄염을 수산화나트륨 용액으로 가수분해하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 에테르기를 가진 폴리티올 화합물의 제조방법.[화학식 1] X = 탄소수가 10개 미만인 알킬렌(alkylene)Y = 2차 알코올 이상의 다가알코올L = 1∼3, m = 0∼10, n = 0∼10, 단 m과 n은 동시에 0 이 아님[화학식 2]X = 탄소수가 10개 미만인 알킬렌(alkylene)Y = 2차 알코올 이상의 다가알코올m = 0∼10, n = 0∼10, 단 m과 n은 동시에 0 이 아님[화학식 3]X = 탄소수가 10개 미만인 알킬렌(alkylene)Y = 2차 알코올 이상의 다가알코올m = 0∼10, n = 0∼10, 단 m과 n은 동시에 0 이 아님청구항 11에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 에틸렌글리콜인 것을 특징으로 하는 폴리티올 화합물의 제조방법. 청구항 1의 광학렌즈용 경량성 고굴절 수지를 열경화시켜 얻은 플라스틱 광학렌즈.
발명자의 다른 특허 :
연구과제 타임라인
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이 특허를 인용한 특허 (1)
[한국]
맑고 투명한 폴리티올 화합물의 제조방법과 이를 이용한 광학렌즈용 조성물 및 광학렌즈의 제조방법 |
장동규,
노수균,
김종효
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