초록 ▼

본 발명은 은 나노입자, 은 나노 콜로이드의 제조방법, 및 상기 은 나노입자를 포함하는 은 잉크조성물에 관한 것이다.본 발명에 따른 은 나노 입자 제조방법은 a) 은 화합물과, 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시켜 특수한 구조를 가지는 은 착체 화합물을 제조하는 단계 b) 상기 은 착체 화합물에 환원제를 반응시키거나, 열을 가하여 환원 또는 열분해 시킴으로써 은 나노입자를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명

본 발명은 은 나노입자, 은 나노 콜로이드의 제조방법, 및 상기 은 나노입자를 포함하는 은 잉크조성물에 관한 것이다.본 발명에 따른 은 나노 입자 제조방법은 a) 은 화합물과, 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄바이카보네이트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시켜 특수한 구조를 가지는 은 착체 화합물을 제조하는 단계 b) 상기 은 착체 화합물에 환원제를 반응시키거나, 열을 가하여 환원 또는 열분해 시킴으로써 은 나노입자를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 은 나노 콜로이드의 제조방법은 상기 b)단계에서 은 착체화합물에 용매 및 콜로이드 안정제를 더 첨가하여 제조하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 제조방법은 간단한 제조공정으로 다양한 형태의 은 나노입자 또는 은 나노 콜로이드를 제조할 수 있을 뿐만 아니라 은 나노 입자크기의 선택성을 향상시킬 수 있고, 또한 150℃ 이하의 낮은 온도에서 짧은 시간동안 소성하여도 소성이 가능하고, 도막 두께 조절이 용이하면서도 높은 전도도를 나타내는 도막 또는 미세 패턴을 형성시킬 수 있는 잉크 조성물을 제공하며, 반사막 재료, 전자파 차폐제, 항균제 등에 적용 가능한 은 잉크 조성물을 제공할 수 있다.

대표청구항 ▼

A) 하기 화학식 1로 표시되는 은 화합물과, 화학식 2 내지 화학식 4로 표시되는 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄 바이카보네아트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시켜 은 착체화합물을 제조하는 단계;B) 상기 A) 단계의 은 착체화합물에 환원제를 반응시키거나 열을 가하여 환원 또는 열분해 시켜 은 나노입자를 제조하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식 1 내지 화학식 4에서, X는

A) 하기 화학식 1로 표시되는 은 화합물과, 화학식 2 내지 화학식 4로 표시되는 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄 바이카보네아트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시켜 은 착체화합물을 제조하는 단계;B) 상기 A) 단계의 은 착체화합물에 환원제를 반응시키거나 열을 가하여 환원 또는 열분해 시켜 은 나노입자를 제조하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식 1 내지 화학식 4에서, X는 산소, 황, 할로겐, 시아노, 시아네이트, 카보네이트, 니트레이트, 나이트라이트, 설페이트, 포스페이트, 티오시아네이트, 클로레이트, 퍼클로레이트, 테트라플로로 보레이트, 아세틸아세토네이트,카복실레이트 및 그들의 유도체로부터 선택되는 치환기이며, N은 1∼4의 정수이고, R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 지방족이나 지환족 알킬기 또는 C6-C20의 아릴이나 이들의 혼합인 아랄킬(ARALKYL)기, 관능기가 치환된 C1-C30의 알킬 및 아릴기, 그리고 헤테로고리 화합물과 고분자화합물 및 그 유도체이며, R1 내지 R6이 관능기가 치환되거나 치환되지 않은 알킬기 또는 아랄킬기일 경우 탄소사슬 내에 N, S, O로부터 선택되는 헤테로원소를 포함할 수 있고, R1과 R2 또는 R4와 R5는 서로 독립적으로 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 알킬렌으로 연결되어 고리를 형성할 수 있다.]제 1항에 있어서,상기 화학식 1의 은 화합물은 산화 은, 티오시아네이트화 은, 시안화 은, 시아네이트화 은, 탄산 은, 질산 은, 아질산 은, 황산 은, 인산 은, 과염소산화 은, 사불소보레이트화 은, 아세틸아세토네이트화 은, 초산 은, 젖산 은, 옥살산 은 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서,R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 아밀, 헥실, 에틸헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 노닐, 데실, 도데실, 헥사데실, 옥타데실, 도코데실, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 알릴, 히드록시, 메톡시, 메톡시에틸, 메톡시프로필, 시아노에틸, 에톡시, 부톡시, 헥실옥시, 메톡시에톡시에틸, 메톡시에톡시에톡시에틸, 헥사메틸렌이민, 모폴린, 피페리딘, 피페라진, 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 트리에틸렌디아민, 피롤, 이미다졸, 피리딘, 카르복시메틸, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 페닐, 메톡시페닐, 시아노페닐, 페녹시, 톨릴, 벤질, 폴리알릴아민, 폴리에틸렌아민 및 그들의 유도체에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서,상기 화학식 2의 암모늄 카바메이트계 화합물은 암모늄 카바메이트(AMMONIUM CARBAMATE), 에틸암모늄 에틸카바메이트, 이소프로필암모늄 이소프로필카바메이트, N-부틸암모늄 N-부틸카바메이트, 이소부틸암모늄 이소부틸카바메이트, T-부틸암모늄 T-부틸카바메이트, 2-에틸헥실암모늄 2-에틸헥실카바메이트, 옥타데실암모늄 옥타데실카바메이트, 2-메톡시에틸암모늄 2-메톡시에틸카바메이트, 2-시아노에틸암모늄 2-시아노에틸카바메이트, 디부틸암모늄 디부틸카바메이트, 디옥타데실암모늄 디옥타데실카바메이트, 메틸데실암모늄 메틸데실카바메이트, 헥사메틸렌이민암모늄 헥사메틸렌이민카바메이트, 모폴리늄 모폴린카바메이트, 피리디늄 에틸헥실카바메이트, 트리에틸렌디아미늄 이소프로필바이카바메이트, 벤질암모늄 벤질카바메이트, 트리에톡시실릴프로필암모늄 트리에톡시실릴프로필카바메이트 및 그 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물이고, 상기 화학식 3의 암모늄 카보네이트계화합물은 암모늄 카보네이트(AMMONIUM CARBONATE), 에틸암모늄 에틸카보네이트, 이소프로필암모늄 이소프로필카보네이트, N-부틸암모늄 N-부틸카보네이트, 이소부틸암모늄 이소부틸카보네이트, T-부틸암모늄 T-부틸카보네이트, 2-에틸헥실암모늄 2-에틸헥실카보네이트, 2-메톡시에틸암모늄 2-메톡시에틸카보네이트, 2-시아노에틸암모늄 2-시아노에틸카보네이트, 옥타데실암모늄 옥타데실카보네이트, 디부틸암모늄 디부틸카보네이트, 디옥타데실암모늄 디옥타데실카보네이트, 메틸데실암모늄 메틸데실카보네이트, 헥사메틸렌이민암모늄 헥사메틸렌이민카보네이트, 모폴린암모늄 모폴린카보네이트, 벤질암모늄 벤질카보네이트, 트리에톡시실릴프로필암모늄 트리에톡시실릴프로필카보네이트, 트리에틸렌디아미늄 이소프로필카보네이트, 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물이고, 상기 화학식 4의 암모늄 바이카보네이트계 화합물은 암모늄 바이카보네이트(AMMONIUM BICARBONATE), 이소프로필암모늄 바이카보네이트, , T-부틸암모늄 바이카보네이트, 2-에틸헥실암모늄 바이카보네이트, 2-메톡시에틸암모늄 바이카보네이트, 2-시아노에틸암모늄 바이카보네이트, 디옥타데실암모늄 바이카보네이트, 피리디늄 바이카보네이트, 트리에틸렌디아미늄 바이카보네이트 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서, A) 단계는 상기 화학식 2 내지 화학식 4 화합물에 상응하는 아민화합물과 상기 화학식 1의 은 화합물과의 혼합용액을 제조한 후, 이산화탄소를 가하여 상응하는 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄 바이카보네이트계 화합물이 용액 중에서 제조되도록 하여 반응하는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서, B) 단계에서 가하는 환원제는 수소, 요오드화수소, 일산화탄소, 소디움 또는 포타슘 보로하이드라이드; 디메틸아민보란(DIMETHYLAMINEBORANE), 부틸아민보란에서 선택되는 아민화합물; 제1염화철, 유산철에서 선택되는 금속염; 메틸포르메이트, 부틸포르메이트, 트리에틸-O-포르메이트에서 선택되는 포르메이트 화합물; 히드라진, 히드라진모노히드레이트, 메틸히드라진, 페닐히드라진, 2-히드록시에틸하이드라진에서 선택되는 히드라진류; 에틸렌글리콜, 에탄올아민, 2-아미노-1-프로판놀, 1-아미노-2-프로판올, 2-아미노-1-부탄올, 1-아미노-2-부탄올, 2-아미노-1-펜탄올, 2-아미노-1-헥산올, 루이시놀, 이소루이시놀, TERT-루이시놀, 세리놀, 2-(메틸아미노)에탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판에서 선택되는 아미노알콜류; 1,2-디히드록시아세톤 다이머, 1,2-디히드록시아세톤, 아세톨, 1-히드록시-2-부타논, 에리쓰룰로오즈에서 선택되는 알콜류; 1-아미노프롤린, 1-아미노피페리딘, 1-아미노-2,6-디메틸피페리딘, 1-아미노호모피페리딘, 2,4-디아미노피페라진, 1-아미노피페리디놀, 1-아미노-4-(2-히드록시에틸)-피페라진, 1-아미노-4-메틸-피페라진, 4-아미노-1,2,4-트리아졸, 4-아미노 모폴린에서 선택되는 N-아미노화합물; 옥사믹히드라자이드, 아세트히드라자이드, 아세틱이드라자이드, 탄소 2내지 12의 알킬히드라자이드, 석시닉디히드라자이드, 아디픽디히드라자이드, 에틸3-히드라지노-3-옥소프로피오네이트, 세미카바자이드(SEMICARBAZIDE), 4-메틸-3-세미카바자이드, 티오세미카바자이드, 4-메틸-3-티오세미카바자이드, 4,4-디메틸-3-티오세미카바자이드에서 선택되는 히드라자이드류; 포름알데히드, 아세트알데히드, 탄소수 2 내지 16의 알킬알데히드, 탄소수 6 내지 20의 방향족 알데히드, 1,3-디포르밀히드라진, 글리옥살, 글리콜알데히드에서 선택되는 알데히드류; 아세트알데히드 하이드라존, 부티르알데히드 하이드라존, 벤즈알데히드 하이드라존, 아세톤 하이드라존, 메팅에틸케톤 하이드라존, 시클로헥사논 하이드라존, 아세토페논 하이드라존에서 선택되는 하이드라존류; 글루코스, 과당, 말토오스, 갈락토오스, 락토오스에서 선택되는 환원당; 아스코빅산(ASCORBIC ACID), 히드로퀴논에서 선택되는 환원성 유기화합물 및 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서,B) 단계에서의 가열 온도는 40 내지 200℃인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서,B) 단계에서 열분해 반응촉진제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 8항에 있어서, 열분해 반응촉진제는 아민계 화합물, 알킬옥심계 화합물, 글리콜계 화합물, 알콕시알칸올계 화합물, 케톤계 화합물, 케톤알콜계 화합물, 산화중합성수지에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 9항에 있어서, 아민계 화합물은 에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리에탄올아민, 프로판올아민, 부탄올아민, 헥사놀아민, 디메틸에탄올아민, 메톡시에틸아민, 에톡시에틸아민, 메톡시프로필아민, 피페리딘, N-메틸피페리딘, 피페라진, N,N'-디메틸피페라진, 1-아미노-4-메틸피페라진, 피롤리딘, N-메틸피롤리딘, 모폴린이고, 알킬옥심계 화합물은 아세톤옥심, 디메틸글리옥심, 2-부타논옥심, 2,3-부타디온모노옥심이고, 글리콜계 화합물은 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜이고, 알콕시알칸올계 화합물은 메톡시에탄올, 메톡시프로판올, 에톡시에탄올이고, 케톤계 화합물은 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤이고 케톤알콜계 화합물은 아세톨, 디아세톤알콜이고, 산화중합성수지는 다가페놀화합물, 페놀수지, 알키드수지, 피롤, 에틸렌디옥시티오펜(EDOT)인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항에 있어서,B) 단계 후 입자의 응집 및 분산성 향상을 위하여 안정제를 가하는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 11항에 있어서,상기 안정제는 1차 아민, 2차 아민, 또는 3차 아민에서 선택되는 아민 화합물, 하기 화학식 2의 암모늄 카바메이트계 화합물, 하기 화학식 3의 암모늄 카보네이트계 화합물, 하기 화학식 4의 암모늄 바이카보네이트계 화합물, 인 화합물 또는 황 화합물로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.[화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식에서, R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 지방족이나 지환족 알킬기 또는 C6-C20의 아릴이나 이들의 혼합인 아랄킬(ARALKYL)기, 관능기가 치환된 C1-C30의 알킬 및 아릴기, 그리고 헤테로고리 화합물과 고분자화합물 및 그 유도체이며, R1 내지 R6이 관능기가 치환되거나 치환되지 않은 알킬기 또는 아랄킬기일 경우 탄소사슬 내에 N, S, O로부터 선택되는 헤테로원소를 포함할 수 있고, R1과 R2 또는 R4와 R5는 서로 독립적으로 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 알킬렌으로 연결되어 고리를 형성할 수 있다.]제 12항에 있어서,인 화합물은 하기 화학식 6, 화학식 7 또는 화학식 8로 표현되는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.[화학식 6]R3P[화학식 7](RO)3P[화학식 8](RO)3PO[상기 화학식에서 R은 탄소수 1~20의 알킬 또는 아릴기에서 선택되는 치환기이다.]제 12항에 있어서, 황 화합물은 부탄티올, N-헥산티올, 디에틸 설파이드, 또는 테트라히드로티오펜에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노입자의 제조방법.제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 은 나노입자.제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 은 나노입자를 포함하는 은 잉크조성물.제 16항에 있어서,상기 은 잉크조성물은 도전체, 금속 전구체 또는 1종 이상의 이들 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 17항에 있어서, 도전체 또는 금속전구체 또는 이들 혼합물의 사용량이 잉크 조성물에 대하여 1 ~ 90중량% 사용하는 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 17항에 있어서, 도전체가 AG, AU, CU, NI, CO, PD, PT, TI, V, MN, FE, CR, ZR, NB, MO, W, RU, CD, TA, RE, OS, IR, AL, GA, GE, IN, SN, SB, PB, BI, SM, EU, AC, TH 및 적어도 1종 이상의 금속 또는 이들의 합금 또는 합금 산화물, 도전성 카본블랙, 그라파이트, 탄소나노튜브 및 도전성 고분자 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 17항에 있어서, 금속 전구체가 하기 화학식 5의 하나 이상의 금속화합물 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물.[화학식 5]MNX[상기의 M은 AG, AU, CU, NI, CO, PD, PT, TI, V, MN, FE, CR, ZR, NB, MO, W, RU, CD, TA, RE, OS, IR, AL, GA, GE, IN, SN, SB, PB, BI, SM, EU, AC, TH이고, N은 1 내지 10의 정수이며, X는 산소, 황, 할로겐, 시아노, 시아네이트, 카보네이트, 니트레이트, 나이트라이트, 설페이트, 포스페이트, 티오시아네이트, 클로레이트, 퍼클로레이트, 테트라플로로 보레이트, 아세틸아세토네이트, 머켑토, 아미드, 알콕사이드, 카복실레이트 및 그들의 유도체에서 선택되는 치환기이다]제 20항에 있어서,금속 전구체가 초산 금, 옥살산 팔라듐, 2-에틸 헥산산 은, 2-에틸 헥산산 구리, 스테아린산 철, 포름산 니켈, 아연 시트레이트, 비스무스 아세테이트, 질산 은, 시안화 구리, 탄산 코발트, 염화 백금, 염화금산, 테트라부톡시 티타늄, 디메톡시지르코늄 디클로라이드, 알루미늄 이소프로폭사이드, 주석 테트라플로로 보레이트, 바나듐 옥사이드, 인듐-주석 옥사이드, 탄탈륨 메톡사이드, 도데실 머켑토화 금, 인듐 아세틸아세토네이트 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 은 잉크 조성물.제 16항에 있어서,상기 잉크조성물은 용매, 안정제, 바인더, 계면활성제, 분산제, 커플링제, 습윤제, 칙소제 또는 레벨링제에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 22항에 있어서,상기 안정제는 1차 아민, 2차 아민, 또는 3차 아민에서 선택되는 아민 화합물, 하기 화학식 2의 암모늄 카바메이트계 화합물, 하기 화학식 3의 암모늄 카보네이트계 화합물, 하기 화학식 4의 암모늄 바이카보네이트계 화합물, 인 화합물 또는 황 화합물로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물[화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식에서, R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 지방족이나 지환족 알킬기 또는 C6-C20의 아릴이나 이들의 혼합인 아랄킬(ARALKYL)기, 관능기가 치환된 C1-C30의 알킬 및 아릴기, 그리고 헤테로고리 화합물과 고분자화합물 및 그 유도체이며, R1 내지 R6이 관능기가 치환되거나 치환되지 않은 알킬기 또는 아랄킬기일 경우 탄소사슬 내에 N, S, O로부터 선택되는 헤테로원소를 포함할 수 있고, R1과 R2 또는 R4와 R5는 서로 독립적으로 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 알킬렌으로 연결되어 고리를 형성할 수 있다..]제 23항에 있어서,인 화합물은 하기 화학식 6, 화학식 7 또는 화학식 8로 표현되는 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물[화학식 6]R3P[화학식 7](RO)3P[화학식 8](RO)3PO[상기 화학식에서 R은 탄소수 1~20의 알킬 또는 아릴기에서 선택되는 치환기이다.]제 23항에 있어서, 황 화합물은 부탄티올, N-헥산티올, 디에틸 설파이드, 또는 테트라히드로티오펜에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 22항에 있어서,상기 바인더는 아크릴, 셀룰로스, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리에테르, 비닐, 우레탄, 우레아, 알키드, 실리콘, 불소, 올레핀, 석유, 로진, 에폭시, 불포화 폴리에스테르, 디알릴프탈레이트수지, 페놀, 옥세탄, 옥사진, 비스말레이미드, 변성 실리콘, 멜라민, 아크릴계 수지, 고무, 천연고분자, 글라스 레진, 글래스 프릿에서 선택되는 어느 하나 이상의 것인 것을 특징으로 하는 은 잉크 조성물.제 16항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 의한 은 잉크 조성물을 도포하여 박막을 형성한 후, 산화처리, 환원처리, 열처리, 적외선, 자외선, 전자 선 또는 레이저 처리를 하여 박막을 형성하는 방법.제 27항에 있어서,상기 박막은 기판 상에 도포하여 형성하는 것을 특징으로 하는 박막을 형성하는 방법.제 27항에 있어서,상기 도포는 디스펜싱, 잉크젯 프린팅, 옵셋 프린팅, 스크린 프린팅, 패드 프린팅, 그라비아 프린팅, 플렉소 프린팅, 스텐실 프린팅, 임프린팅(IMPRINTING), 제로그라피(XEROGRAPHY) 또는 리소그라피에서 선택되는 프린팅 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막을 형성하는 방법.A) 하기 화학식 1로 표시되는 은 화합물과, 화학식 2 내지 화학식 4로 표시되는 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄 바이카보네아트계 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물과 반응시켜 은 착체화합물을 제조하는 단계;B) 상기 A) 단계의 은 착체 화합물, 용매 및 콜로이드 안정제의 혼합용액에 환원제를 반응시키거나 열을 가하여 환원 또는 열분해시켜 은 나노 콜로이드를 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][상기 화학식 1 내지 화학식 4에서, X는 산소, 황, 할로겐, 시아노, 시아네이트, 카보네이트, 니트레이트, 나이트라이트, 설페이트, 포스페이트, 티오시아네이트, 클로레이트, 퍼클로레이트, 테트라플로로 보레이트, 아세틸아세토네이트,카복실레이트 및 그들의 유도체로부터 선택되는 치환기이며, N은 1∼4의 정수이고, R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 지방족이나 지환족 알킬기 또는 C6-C20의 아릴이나 이들의 혼합인 아랄킬(ARALKYL)기, 관능기가 치환된 C1-C30의 알킬 및 아릴기, 그리고 헤테로고리 화합물과 고분자화합물 및 그 유도체이며, R1 내지 R6이 관능기가 치환되거나 치환되지 않은 알킬기 또는 아랄킬기일 경우 탄소사슬 내에 N, S, O로부터 선택되는 헤테로원소를 포함할 수 있고, R1과 R2 또는 R4와 R5는 서로 독립적으로 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 알킬렌으로 연결되어 고리를 형성할 수 있다.]제 30항에 있어서, 상기 화학식 1의 은 화합물은 산화 은, 티오시아네이트화 은, 시안화 은, 시아네이트화 은, 탄산 은, 질산 은, 아질산 은, 황산 은, 인산 은, 과염소산화 은, 사불소보레이트화 은, 아세틸아세토네이트화 은, 초산 은, 젖산 은, 옥살산 은 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, R1 내지 R6는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 아밀, 헥실, 에틸헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 노닐, 데실, 도데실, 헥사데실, 옥타데실, 도코데실, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 알릴, 히드록시, 메톡시, 메톡시에틸, 메톡시프로필, 시아노에틸, 에톡시, 부톡시, 헥실옥시, 메톡시에톡시에틸, 메톡시에톡시에톡시에틸, 헥사메틸렌이민, 모폴린, 피페리딘, 피페라진, 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 트리에틸렌디아민, 피롤, 이미다졸, 피리딘, 카르복시메틸, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 페닐, 메톡시페닐, 시아노페닐, 페녹시, 톨릴, 벤질, 폴리알릴아민, 폴리에틸렌아민 및 그들의 유도체에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, 상기 화학식2의 암모늄 카바메이트계 화합물은 암모늄 카바메이트(AMMONIUM CARBAMATE), 에틸암모늄 에틸카바메이트, 이소프로필암모늄 이소프로필카바메이트, N-부틸암모늄 N-부틸카바메이트, 이소부틸암모늄 이소부틸카바메이트, T-부틸암모늄 T-부틸카바메이트, 2-에틸헥실암모늄 2-에틸헥실카바메이트, 옥타데실암모늄 옥타데실카바메이트, 2-메톡시에틸암모늄 2-메톡시에틸카바메이트, 2-시아노에틸암모늄 2-시아노에틸카바메이트, 디부틸암모늄 디부틸카바메이트, 디옥타데실암모늄 디옥타데실카바메이트, 메틸데실암모늄 메틸데실카바메이트, 헥사메틸렌이민암모늄 헥사메틸렌이민카바메이트, 모폴리늄 모폴린카바메이트, 피리디늄 에틸헥실카바메이트, 트리에틸렌디아미늄 이소프로필바이카바메이트, 벤질암모늄 벤질카바메이트, 트리에톡시실릴프로필암모늄 트리에톡시실릴프로필카바메이트 및 그 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물이고, 상기 화학식 3의 암모늄 카보네이트계화합물은 암모늄 카보네이트(AMMONIUM CARBONATE), 에틸암모늄 에틸카보네이트, 이소프로필암모늄 이소프로필카보네이트, N-부틸암모늄 N-부틸카보네이트, 이소부틸암모늄 이소부틸카보네이트, T-부틸암모늄 T-부틸카보네이트, 2-에틸헥실암모늄 2-에틸헥실카보네이트, 2-메톡시에틸암모늄 2-메톡시에틸카보네이트, 2-시아노에틸암모늄 2-시아노에틸카보네이트, 옥타데실암모늄 옥타데실카보네이트, 디부틸암모늄 디부틸카보네이트, 디옥타데실암모늄 디옥타데실카보네이트, 메틸데실암모늄 메틸데실카보네이트, 헥사메틸렌이민암모늄 헥사메틸렌이민카보네이트, 모폴린암모늄 모폴린카보네이트, 벤질암모늄 벤질카보네이트, 트리에톡시실릴프로필암모늄 트리에톡시실릴프로필카보네이트, 트리에틸렌디아미늄 이소프로필카보네이트, 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물이고, 상기 화학식 4의 암모늄 바이카보네이트계 화합물은 암모늄 바이카보네이트(AMMONIUM BICARBONATE), 이소프로필암모늄 바이카보네이트, , T-부틸암모늄 바이카보네이트, 2-에틸헥실암모늄 바이카보네이트, 2-메톡시에틸암모늄 바이카보네이트, 2-시아노에틸암모늄 바이카보네이트, 디옥타데실암모늄 바이카보네이트, 피리디늄 바이카보네이트, 트리에틸렌디아미늄 바이카보네이트 및 그 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, A) 단계는 상기 화학식 2 내지 화학식 4 화합물에 상응하는 아민화합물과 상기 화학식 1의 은 화합물과의 혼합용액을 제조한 후, 이산화탄소를 가하여 상응하는 암모늄 카바메이트계 화합물, 암모늄 카보네이트계 화합물 또는 암모늄 바이카보네이트계 화합물이 용액 중에서 제조되도록 하여 반응하는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, 환원제는 수소, 요오드화수소, 일산화탄소, 소디움 또는 포타슘 보로하이드라이드; 디메틸아민보란, 부틸아민보란에서 선택되는 아민화합물; 제1염화철, 유산철에서 선택되는 금속염; 메틸포르메이트, 부틸포르메이트, 트리에틸-O-포르메이트에서 선택되는 포르메이트 화합물; 히드라진, 히드라진모노히드레이트, 메틸히드라진, 페닐히드라진, 2-히드록시에틸하이드라진에서 선택되는 히드라진류; 에틸렌글리콜, 에탄올아민, 2-아미노-1-프로판놀, 1-아미노-2-프로판올, 2-아미노-1-부탄올, 1-아미노-2-부탄올, 2-아미노-1-펜탄올, 2-아미노-1-헥산올, 루이시놀, 이소루이시놀, TERT-루이시놀, 세리놀, 2-(메틸아미노)에탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판에서 선택되는 아미노알콜류; 1,2-디히드록시아세톤 다이머, 1,2-디히드록시아세톤, 아세톨, 1-히드록시-2-부타논, 에리쓰룰로오즈에서 선택되는 알콜류; 1-아미노프롤린, 1-아미노피페리딘, 1-아미노-2,6-디메틸피페리딘, 1-아미노호모피페리딘, 2,4-디아미노피페라진, 1-아미노피페리디놀, 1-아미노-4-(2-히드록시에틸)-피페라진, 1-아미노-4-메틸-피페라진, 4-아미노-1,2,4-트리아졸, 4-아미노 모폴린에서 선택되는 N-아미노화합물; 옥사믹히드라자이드, 아세트히드라자이드, 아세틱이드라자이드, 탄소 2내지 12의 알킬히드라자이드, 석시닉디히드라자이드, 아디픽디히드라자이드, 에틸3-히드라지노-3-옥소프로피오네이트, 세미카바자이드(SEMICARBAZIDE), 4-메틸-3-세미카바자이드, 티오세미카바자이드, 4-메틸-3-티오세미카바자이드, 4,4-디메틸-3-티오세미카바자이드에서 선택되는 히드라자이드류; 포름알데히드, 아세트알데히드, 탄소수 2 내지 16의 알킬알데히드, 탄소수 6 내지 20의 방향족 알데히드, 1,3-디포르밀히드라진, 글리옥살, 글리콜알데히드에서 선택되는 알데히드류; 아세트알데히드 하이드라존, 부티르알데히드 하이드라존, 벤즈알데히드 하이드라존, 아세톤 하이드라존, 메팅에틸케톤 하이드라존, 시클로헥사논 하이드라존, 아세토페논 하이드라존에서 선택되는 하이드라존류; 글루코스, 과당, 말토오스, 갈락토오스, 락토오스에서 선택되는 환원당; 아스코빅산, 히드로퀴논에서 선택되는 환원성 유기화합물 및 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, 상기 콜로이드 안정제는 폴리비닐피롤리돈, 폴리(비닐피롤리돈-알킬아크릴레이트) 공중합체, 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트), 폴리(히드록시프로필 메타크릴레이트), 폴리(4-히드록시부틸 메타크릴레이트), 에틸셀룰로오스, 2-히드록시에틸셀룰로오스, 2-히드록시프로필셀룰로오스, 폴리에틸렌이민, 탄소수 2 내지 20의 알칸 티올, 방향족 티올, 탄소 2내지 20이하의 알킬티오글리콜레이트, 소듐 폴리포스페이트, 소듐 폴리비닐설포네이트, 소듐 씨트레이트, 소듐 타르타레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리비닐알콜, 소듐 폴리아크릴산, 폴리아크릴산, 소듐 폴리메타크릴산, 메타크릴산, 프로틴, 프로틴 올리고머 그리고 글리신, 알라닌, 아미노부티르산, 발린, 루이신, 이소루이신, 베타알라닌, 세린, 라이신, 프롤린, 피페콜린산, 아스파르트산, 글루타민산, 아스파라긴산, 메티오닌, 시스테인, 시스틴, 페닐알라닌, 페닐글리신, 티로신, 히스티딘, 아미노벤조산 및 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, 상기 용매는 물, 알콜류, 글리콜류, 에스테르류, 에테르류, 케톤류, 아마이드류, 지방족 탄화수소류, 방향족 탄화수소류, 아민류, 카보네이트류, 할로겐 치환 용매, 디메틸술폭사이드 또는 이들의 혼합용매로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항에 있어서, B) 단계에서의 가열 온도는 40 내지 200℃인 것을 특징으로 하는 은 나노 콜로이드의 제조방법.제 30항 내지 제 38항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 은 나노 콜로이드.