초록

본 발명은 전도성 ITO(인듐 주석 산화물) 입자 또는 ATO(안티몬 주석 산화물) 입자 또는 이들의 혼합물을 포함하는 코팅층을 갖는 투명, 전기전도성 특성을 갖는　 필름에 관한 것으로 상기 필름은 평균 입경이 10~500nm인 ITO 또는 ATO 나노 입자를 필름 표면에 균일하게 도포하는 것을 특징으로 하는 투명성이 우수한 디스플레이용 필름의 제조에 관한 것이다. 이렇게 제조한 필름은 투명성을 유지하면서 우수한 전기전도성 및 유연성, 경량화 등의 특성으로 광학용이나 산업용 등의 분야에 특히 적합하다.

대표청구항 ▼

투명 필름의 편면 또는 양면에 코팅액을 도입하여 투명 도전성 필름을 제조하는데 있어서, ① 수분산계 접착성 수지와 수분산 산화 금속 화합물을 혼합하는 단계; ② 상기 ①의 혼합 코팅액을 코터를 이용하여 코팅하는 단계; ③ 상기 ②의 코팅된 필름을 건조 및 경화시키는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조 방법. 제 1항에 있어서, 수분산계 접착성 수지는 아크릴계, 우레탄계, 폴리에스테르계 수지 중 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 수분산 산화 금속 화합물 입자는 평균 입경이 10~500nm인 ITO

투명 필름의 편면 또는 양면에 코팅액을 도입하여 투명 도전성 필름을 제조하는데 있어서, ① 수분산계 접착성 수지와 수분산 산화 금속 화합물을 혼합하는 단계; ② 상기 ①의 혼합 코팅액을 코터를 이용하여 코팅하는 단계; ③ 상기 ②의 코팅된 필름을 건조 및 경화시키는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조 방법. 제 1항에 있어서, 수분산계 접착성 수지는 아크릴계, 우레탄계, 폴리에스테르계 수지 중 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 수분산 산화 금속 화합물 입자는 평균 입경이 10~500nm인 ITO 또는 ATO 이고, 수분산 산화 금속 화합물 입자의 양은 최종 코팅층의 고형분 기준으로 30~70wt%이고 코팅층의 두께는 0.05~2.0um인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름의 제조 방법. 제 1항 또는 제 2항의 제조 방법으로 제조한 필름으로서, 탁도(Haze) 상승값이 기재 필름 대비 20% 이하이고, 표면저항이 1×109 이하인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.