본 발명은 액체 배지에 현탁된 다공성 키토산 입자를 포함하고, 상기 액체 배지가 생체적합성 고분자를 추가적으로 포함하는 정형외과용 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 정형외과용 조성물을 건조시킴에 의해 고형 또는 반고형 정형외과 재료를 제조하는 방법을 제공한다. 결과로서 생긴 고형 또는 반고형 조성물은 골 대체재, 골 시멘트, 및 조직 스캐폴드으로서의 용도를 발견한다. 결정성을 유발할 수 있는 포로젠을 혼입함에 의해 본 발명에 적당한 다공성 키토산 입자를 제조하는 방법이 또한 개시된다.
대표청구항▼
액체 배지에 현탁된 다공성 키토산 입자를 포함하고,상기 액체 배지는 생체적합성 고분자를 추가적으로 포함하는 정형외과용 조성물.제1항에 있어서, 상기 입자가 10㎛ 내지 2MM의 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입자가 키토산 유도체, 다당류 및/또는 단백질과 키토산의 혼합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제3항에 있어서, 상기 유도체가 황산화된 키토산, N-카르복시메틸 키토산, O-카르복시메틸 키토산, 및 N,O-카르복시메틸 키토산으로부터 선택된 것을 특징으
액체 배지에 현탁된 다공성 키토산 입자를 포함하고,상기 액체 배지는 생체적합성 고분자를 추가적으로 포함하는 정형외과용 조성물.제1항에 있어서, 상기 입자가 10㎛ 내지 2MM의 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입자가 키토산 유도체, 다당류 및/또는 단백질과 키토산의 혼합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제3항에 있어서, 상기 유도체가 황산화된 키토산, N-카르복시메틸 키토산, O-카르복시메틸 키토산, 및 N,O-카르복시메틸 키토산으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입자가 50% 이상의 키토산을 함유하는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입자가 50 내지 90%의 키토산을 함유하는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체 배지가 가소제를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제7항에 있어서, 상기 가소제가 글리세롤인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생체적합성 고분자가 다당류 또는 단백질인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생체적합성 고분자가 대전 고분자인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제10항에 있어서, 상기 생체적합성 고분자가 양이온성 고분자인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제11항에 있어서, 상기 생체적합성 고분자가 키토산인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생체적합성 고분자가 액체 배지에 용해된 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체 배지가 수성 배지인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 정형외과용 조성물을 건조하는 단계를 포함하는 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 제조하는 방법.제15항에 있어서, 상기 건조가 동결건조에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 제조하는 방법.제15항에 있어서, 상기 건조가 상기 액체 배지의 증발에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 제조하는 방법.제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 얻어질 수 있는 고형 또는 반고형 정형외과용 재료.제18항에 있어서, 상기 재료가 50㎛ 내지 1CM의 직경을 갖는 다공성 키토산 입자들 사이에 공극을 포함하는 것을 특징으로 고형 또는 반고형 정형외과용 재료.제18항 또는 제19항에 따른 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 골 대체재로 사용하는 용도.제18항 또는 제19항에 따른 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 골 시멘트로 사용하는 용도.제18항 또는 제19항에 따른 고형 또는 반고형 정형외과용 재료를 조직 스캐폴드로 사용하는 용도.키토산 및 상기 키토산에 결정성을 유발할 수 있는 포로젠을 함유하는 용액을 제조하는 단계;상기 용액을 고형 잔류물로 건조시키는 단계; 및상기 고형 잔류물을 분쇄하여 다공성 키토산 입자를 생성하는 단계;를 포함하는 다공성 키토산 입자를 제조하는 방법.제23항에 있어서, 상기 용액이 키토산 유도체, 다당류, 및/또는 단백질과 키토산의 혼합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.제23항 또는 제24항에 있어서, 상기 유도체가 황산화된 키토산, N-카르복시메틸 키토산, O-카르복시메틸 키토산, 및 N,O-카르복시메틸 키토산으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 혼합물이 50% 이상의 키토산을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.제26항에 있어서, 상기 혼합물이 50 내지 90%의 키토산을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.제23항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 포로젠이 생체적합성 무기염 또는 10 KD 이상의 분자량을 갖는 폴리에틸렌 글리콜로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.제28항에 있어서, 상기 포로젠이 생체적합성 무기염이고 상기 염이 염화나트륨, 염화칼륨, 염화칼슘, 및 염화마그네슘으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.제29항에 있어서, 상기 염이 염화나트륨인 것을 특징으로 하는 방법.제23항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 키토산 대 포로젠의 비, 또는 키토산 유도체, 다당류 및/또는 단백질과 키토산의 혼합물 대 포로젠의 비가 1:1 내지 1:10인 것을 특징으로 하는 방법.제31항에 있어서, 상기 비가 1:2 내지 1:5인 것을 특징으로 하는 방법.제23항 내지 제32항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 얻어질 수 있는 다공성 키토산 입자.제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다공성 키토산 입자가 제33항에 따른 다공성 키토산 입자인 것을 특징으로 하는 정형외과용 조성물.
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