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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2008-0001310 (2008-01-04) |
공개번호 | 10-2008-0009236 (2008-01-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080001310 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-01-29) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
제조 코스트를 증가시키는 합금첨가량을 저감하면서 목적으로 하는 잔류 오스테나이트조직을 확보하고, 아연도금의 부착성이 양호하고 고내식성 표면처리강판에도 적용할가능한 가공성이 양호한 TR1P 형의 고강도강판을 제조하는 것이 개시되어 있다. 이 고강도강판은 N을 0.03∼2.0%로 고농도로 함유시키고 바람직하게는 질화물을 형성하는 Si, A1를 0.5%이하, 0.3% 이하로 제어하며, 더욱 철질화물의 생성을 제어하기 위해서 Ca, Na, Mg 등을 필요에 따라 첨가하는 것으로 금속조직속의 잔류 오스테나이트상의 존재비율을 3∼20%로 조정
질량%로서 N:0.082∼2.0% 및 C:0.046% 이하를 함유하고, 잔류 오스테나이트의 부피율이 3∼20%인 가공성 및 도금 밀착성이 뛰어난 고강도 강판.
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