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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0047502 (2008-05-22) |
공개번호 | 10-2009-0121544 (2009-11-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080047502 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-05-22) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
나노포어 형성방법을 제공한다. 먼저, 박막 상에 제1 전자빔을 조사하여 상기 박막 내에 홀을 형성한다. 상기 홀을 구비하는 박막 상에 상기 제1 전자빔에 비해 낮은 에너지를 갖는 제2 전자빔을 조사하여 상기 홀의 크기를 감소시켜 나노포어를 형성한다.
박막 상에 제1 전자빔을 조사하여 상기 박막 내에 홀을 형성하는 단계; 및상기 홀을 구비하는 박막 상에 상기 제1 전자빔에 비해 낮은 에너지를 갖는 제2 전자빔을 조사하여 상기 홀의 크기를 감소시켜 나노포어를 형성하는 단계를 포함하는 나노포어 형성방법.제1항에 있어서,상기 제1 전자빔 조사 및 상기 제2 전자빔 조사는 하나의 장비 내에서 수행하는 나노포어 형성방법.제2항에 있어서,상기 제1 전자빔 조사 및 상기 제2 전자빔 조사는 TEM(Transmission Electron Microscope)을 사용하여 수행하는 나노포어 형성방
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