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저농도 염산을 이용한 하이드라조디카본아미드의 제조방법및 제조장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C07C-245/14
  • C07C-245/04
  • C07B-061/00
출원번호 10-2008-0048040 (2008-05-23)
공개번호 10-2009-0121892 (2009-11-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020080048040
발명자 / 주소
  • 한상진 / 경기도 화성시 양감면 요당리 ***-*
  • 신민승 / 경기도 화성시 양감면 요당리 ***-*
출원인 / 주소
  • 주식회사 동진쎄미켐 / 인천 서구 가좌동 ***-*
대리인 / 주소
  • 이상헌 (Lee, Sang Hun)
  • 서울 강남구 역삼동 ***-*호 영원빌딩 ***호(한누리특허법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

하이드라진과 요소를 반응시켜 하이드라조디카본아미드를 제조하는데 있어서, 반응 촉진제로서 저농도 염산을 사용하고, 연속식 반응을 이용함으로서, 경제적이며 친환경적으로 하이드라조디카본아미드를 제조하는 방법 및 장치가 개시된다. 상기 하이드라조디카본아미드의 제조방법은, 연속식 반응기에 하이드라진 수용액을 투입하여 통과시키면서, 상기 연속식 반응기에 장착된 요소 수용액 투입구 및 염산 수용액 투입구를 통하여, 각각 요소 수용액 및 염산 수용액을 투입함으로서, 상기 연속식 반응기 내부에서 하이드라조디카본아미드를 합성하는 단계; 및 상기 연속

대표청구항

연속식 반응기에 하이드라진 수용액을 투입하여 통과시키면서, 상기 연속식 반응기에 장착된 요소 수용액 투입구 및 염산 수용액 투입구를 통하여, 각각 요소 수용액 및 염산 수용액을 투입함으로서, 상기 연속식 반응기 내부에서 하이드라조디카본아미드를 합성하는 단계; 및 상기 연속식 반응기의 유출구를 통하여 고체상의 하이드라조디카본아미드를 수득하는 단계를 포함하는, 하이드라조디카본아미드의 제조방법.제1항에 있어서, 상기 하이드라진 수용액의 농도는 0.5 내지 10 중량%이며, 상기 요소 수용액의 농도는 10 내지 60 중량%이며, 상기 염산

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