고지마 가즈히로
/ 일본국 사이타마 사야마시 가시와바라 ***-** 고지마 가가쿠 야쿠힌 가부시키가이샤 내
와타나베 히데토
/ 일본국 사이타마 사야마시 가시와바라 ***-** 고지마 가가쿠 야쿠힌 가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
고지마 가가쿠 야쿠힌 가부시키가이샤 / 일본국 사이타마 사야마시 가시와바라 ***-**
대리인 / 주소
특허법인태평양
심사청구여부
있음 (2008-08-08)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록▼
본 발명은 치환된 팔라듐 도금 처리 등과 같은 (전-)처리 없이 무전해 니켈 도금막 상에 직접, 순팔라듐 도금막을 형성할 수 있는 무전해 팔라듐 도금액을 제공하는 것으로, 상기 순팔라듐 도금막은 접착성이 양호하고 도금막 두께 편차가 적다.본 발명의 무전해 팔라듐 도금액은 제1 착화제, 제2 착화제, 인산 또는 인산염, 황산 또는 황산염 및 포름산 또는 포름산염을 포함하며, 상기 제1 착화제는 에틸렌디아민을 리간드로 한 유기 팔라듐 착체이고, 상기 제2 착화제는 카르복실기 또는 그 염을 갖는 킬레이트제 및/또는 수용성 지방족 유기산
본 발명은 치환된 팔라듐 도금 처리 등과 같은 (전-)처리 없이 무전해 니켈 도금막 상에 직접, 순팔라듐 도금막을 형성할 수 있는 무전해 팔라듐 도금액을 제공하는 것으로, 상기 순팔라듐 도금막은 접착성이 양호하고 도금막 두께 편차가 적다.본 발명의 무전해 팔라듐 도금액은 제1 착화제, 제2 착화제, 인산 또는 인산염, 황산 또는 황산염 및 포름산 또는 포름산염을 포함하며, 상기 제1 착화제는 에틸렌디아민을 리간드로 한 유기 팔라듐 착체이고, 상기 제2 착화제는 카르복실기 또는 그 염을 갖는 킬레이트제 및/또는 수용성 지방족 유기산 또는 그 염이다.
대표청구항▼
제1 착화제, 제2 착화제, 인산 또는 인산염, 황산 또는 황산염 및 포름산 또는 포름산염을 포함하며, 상기 제1 착화제는 에틸렌디아민을 리간드로 갖는 유기 팔라듐 착체이며, 상기 제1 착화제는 디클로로디에틸렌디아민 팔라듐, 디니트라이트디에틸렌디아민 팔라듐 및 디아세테이트디에틸렌디아민 팔라듐으로 이루어진 군으로부터 선택되는데, 이들은 리간드로서의 에틸렌디아민에 무기 팔라듐 염을 2:1의 몰비로 미리 반응시켜 각각 합성되는 것을 특징으로 하며; 상기 제2 착화제는 카르복실기 또는 그 염을 갖는 킬레이트제 및/또는 수용성 지방족 유기산
제1 착화제, 제2 착화제, 인산 또는 인산염, 황산 또는 황산염 및 포름산 또는 포름산염을 포함하며, 상기 제1 착화제는 에틸렌디아민을 리간드로 갖는 유기 팔라듐 착체이며, 상기 제1 착화제는 디클로로디에틸렌디아민 팔라듐, 디니트라이트디에틸렌디아민 팔라듐 및 디아세테이트디에틸렌디아민 팔라듐으로 이루어진 군으로부터 선택되는데, 이들은 리간드로서의 에틸렌디아민에 무기 팔라듐 염을 2:1의 몰비로 미리 반응시켜 각각 합성되는 것을 특징으로 하며; 상기 제2 착화제는 카르복실기 또는 그 염을 갖는 킬레이트제 및/또는 수용성 지방족 유기산 또는 그 염이고, 카르복시기 또는 그의 염을 갖는 상기 킬레이트제는 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 그의 나트륨 염, 칼륨 염 또는 암모늄 염이고, 상기 수용성 지방족 유기산 또는 그의 염은시트르산, 시트르산 디암모늄, 시트르산 나트륨, 시트르산 칼륨, 말산, 말산 암모늄, 말산 나트륨, 말산 칼륨, 말레산 및 옥살산으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종인 무전해 팔라듐 도금액.
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