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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0091400 (2008-09-18) |
공개번호 | 10-2010-0032491 (2010-03-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080091400 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 (A)알칼리 가용성 수지; (B)감광성 화합물; 및 (C)하기 화학식 1로 표시되는 카보네이트 화합물과 유기용매를 포함하는 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 주변의 온도 변화 및 장시간에 걸친 보존 안정성의 향상을 위해 유기용매를 혼합하여 사용하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명에 따른 포지티브 포토레지스트 조성물은 카보네이트 화합물을 유기용매에 함유하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 조성물로서, 500
(A)알칼리 가용성 수지;(B)감광성 화합물; 및(C)하기 화학식 1로 표시되는 카보네이트 화합물과 유기용매를 포함하는 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물:<화학식 1>상기 식에서, R1은 수소, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 히드록시 알킬, 탄소수 3 내지 10의 분지쇄 알킬기, 탄소수 3 내지 10의 환식 알킬기 또는 탄소수 6 내지 14의 아릴기이다.
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