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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0102029 (2008-10-17) |
공개번호 | 10-2010-0042841 (2010-04-27) |
등록번호 | 10-1026163-0000 (2011-03-24) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080102029 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-12-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 중성자 발생장치용 금속 표적에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 두께 및 반경이 순차적으로 증가하는 다수 개의 원판형 금속판을 각각 소정의 간격으로 이격시켜 연속적으로 배열하여 금속 표적을 구성함으로써 전자 입사에 따른 고에너지 중성자의 발생 효율을 증가시키는 동시에 금속판 사이에 형성된 기체 채널을 통해 금속판의 냉각을 용이하게 하여 표적의 내구성을 향상시킬 수 있는 중성자 발생장치용 금속 표적에 관한 것이다. 본 발명에 따른 중성자 발생장치용 금속 표적은, 표적 물질에 전자빔을 입사시켜 중성자를 발생시키는 중성자 발생장
표적 물질에 전자빔을 입사시켜 중성자를 발생시키는 중성자 발생장치에 사용되는 금속 표적에 있어서, 반경 및 두께가 순차적으로 증가하는 다수 개의 원판형 금속판; 및 상기 다수 개의 원판형 금속판을 각각 반경 및 두께가 순차적으로 증가하는 순서로 소정 거리 이격시켜 고정하는 홀더;를 포함하여 구성되어, 상기 다수 개의 원판형 금속판 사이에 형성되는 기체 채널을 통해 유입되는 기체를 통해 표적을 구성하는 금속판이 냉각되도록 구성된 것을 특징으로 하는 중성자 발생장치용 금속 표적.
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