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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0108740 (2008-11-04) |
공개번호 | 10-2010-0049774 (2010-05-13) |
등록번호 | 10-1061981-0000 (2011-08-29) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080108740 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-11-04) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 기공률이 높고 각 기공의 형상이 구조적으로 안정한 구형을 이루면서 기공 간에 통공이 형성되어 있어, 특히 수처리 또는 전기도금용 전극에 적합한 개기공 금속 다공질체와 이를 이용한 불용성전극의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 금속 다공질체의 제조방법은, (a) 몰드에 고분자 화합물로 이루어진 스페이스 홀더용 입자를 충전하고 상기 스페이스 홀더 입자간의 접촉 부분이 일부 용융하여 접합될 수 있도록 가열하여 프리폼을 형성하는 단계; (b) 상기 프리폼에 형성되어 있는 간극 사이로 금속 피드스톡을 침투시켜 복합체를 형성하
기공이 구형의 형상을 이루며 기공 간에 통공이 형성되어 있는 개기공 다공질체로서 기공률이 70% 이상인 것을 특징으로 하는 금속 다공질체.
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