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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0122866 (2008-12-05) |
공개번호 | 10-2010-0064435 (2010-06-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080122866 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-12-05) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
스크럽 제재로 소듐클로라이드 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 각질 제거용 화장료 조성물 및 그 제조방법이 개시된다. 소듐클로라이드를 이용한 각질 제거용 화장료 조성물은 소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%, 계면활성제 5 내지 8 중량% 를 포함하여 이루어질 수 있고, 점증제 0.01 내지 0.1 중량%가 포함될 수 있다. 본 발명에 의하면 소듐클로라이드 입자와 계면활성제가 각질과 노폐물을 제거하며 사용후에 별도의 세정과정이 필요없이 물로 간단히 씻어낼 수 있는 각질제거 화장료 조성물을 제공할
소듐클로라이드 68 내지 75 중량%, 정제수 7 내지 15 중량%, 계면활성제 5 내지 8 중량%를 포함하여,스크럽 물질로 소듐클로라이드 입자를 가지는 것을 특징으로 하는 각질 제거용 화장료 조성물.
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