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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0136200 (2008-12-30) |
공개번호 | 10-2010-0078059 (2010-07-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080136200 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명에서는 반도체 소자 제조를 위한 포토 공정에서 혼용되는 다수의 이종 노광장비간 오버레이 정렬도(overlay accuracy)를 개선시키는 방법에 있어서, 포토 공정에서 혼용되는 서로 다른 모델(model)의 이종 노광장비간 교차 진행을 위해서 프리 얼라인먼트 매칭(pre-alignment matching), 웨이퍼 스테이지 그리드 매칭(wafer stage grid matching)과 렌즈 디스토션 매칭(lens distortion matching)을 수행하여 노광장비간 기계, 렌즈 광학 특성차에 의한 오버레이 값을 최소화
이종 노광장비간 오버레이 정렬도 개선 방법으로서,상기 이종 노광장비간 프리 얼라인먼트 매칭을 수행하는 단계와,상기 프리 얼라인 매칭 후, 상기 이종 노광장비간 웨이퍼 스테이지 그리드 매칭을 수행하는 단계와,상기 웨이퍼 스테이지 그리드 매칭 수행 후, 상기 이종 노광장비간 렌즈 디스토션 매칭을 수행하는 단계를 포함하는 이종 노광장비간 오버레이 정렬도 개선방법.
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