야마모토 토미타카
/ 일본국 도쿄도 카츠시카쿠 니시신코이와 *-*-** 딥솔가부시키가이샤 테크니칼센타 내
오카베 나오키
/ 일본국 도쿄도 고토쿠 카메이도 *-**-**-***
출원인 / 주소
딥솔 가부시키가이샤 / 일본국 도쿄도 츄오쿠 긴자 *쵸메 *반 *고
대리인 / 주소
채종길
(CHAE JONG KIL)
서울시 강남구 역삼동 ***-** 성보빌딩 *층(세화국제특허법률사무소)
심사청구여부
있음 (2008-04-04)
심사진행상태
원결정유지(심사전치)
법적상태
거절
초록▼
본 발명은 산성, 중성, 알칼리성의 아연 도금욕종이나 니켈 공석의 유무에 관계없이, 검은빛·광택 외관이나 내식성이 균일하게 안정된 흑색 3가 크롬 화성 피막을 형성하기 위한 처리 용액 및 흑색 3가 크롬 화성 피막의 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 3가 크롬 이온과, 3가 크롬과 수용성 착체를 형성할 수가 있는 킬레이트제와, 코발트 이온, 니켈 이온 및 철 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속 이온과, 수소 이온 농도 완충제로서 포름산 또는 그 염을 함유하는, 아연 또는 아연 합금 상에 흑색의
본 발명은 산성, 중성, 알칼리성의 아연 도금욕종이나 니켈 공석의 유무에 관계없이, 검은빛·광택 외관이나 내식성이 균일하게 안정된 흑색 3가 크롬 화성 피막을 형성하기 위한 처리 용액 및 흑색 3가 크롬 화성 피막의 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 3가 크롬 이온과, 3가 크롬과 수용성 착체를 형성할 수가 있는 킬레이트제와, 코발트 이온, 니켈 이온 및 철 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속 이온과, 수소 이온 농도 완충제로서 포름산 또는 그 염을 함유하는, 아연 또는 아연 합금 상에 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 형성하기 위한 처리 용액을 제공한다.
대표청구항▼
3가 크롬 이온과,3가 크롬과 수용성 착체를 형성할 수가 있는 킬레이트제와,코발트 이온, 니켈 이온 및 철 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속 이온과,수소 이온 농도 완충제로서 포름산 또는 그 염을 함유하는, 아연 또는 아연 합금 상에 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 형성하기 위한 처리 용액.제1항에 있어서,인산 이온, 염소 이온, 질산 이온 및 황산 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기산 이온을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 처리 용액.제1항 또는 제2항에 있어서,상기 킬레이트제가 모노카르
3가 크롬 이온과,3가 크롬과 수용성 착체를 형성할 수가 있는 킬레이트제와,코발트 이온, 니켈 이온 및 철 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속 이온과,수소 이온 농도 완충제로서 포름산 또는 그 염을 함유하는, 아연 또는 아연 합금 상에 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 형성하기 위한 처리 용액.제1항에 있어서,인산 이온, 염소 이온, 질산 이온 및 황산 이온으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기산 이온을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 처리 용액.제1항 또는 제2항에 있어서,상기 킬레이트제가 모노카르복실산(포름산 제외), 디카르복실산, 트리카르복실산, 히드록시카르복실산, 아미노카르복실산 및 그들의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 처리 용액.제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,포름산 또는 그 염의 함유량이 0.1∼100G/L의 범위인 것을 특징으로 하는 처리 용액.제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,수소 이온 농도(PH)가 0.5∼4의 범위인 것을 특징으로 하는 처리 용액.제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,아연 합금이 아연 니켈 합금인 것을 특징으로 하는 처리 용액.아연 또는 아연 합금을 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항 기재의 처리 용액으로 화성 처리하여, 아연 또는 아연 합금 상에 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 형성하는데 즈음하여, 처리 용액의 온도가 10∼50℃의 범위인 화성 처리 방법.아연 또는 아연 합금을 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항 기재의 처리 용액으로 화성 처리하여, 아연 또는 아연 합금 상에 형성된 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 100∼250℃에서 10∼300분간 어닐 처리하는 화성 처리 방법.아연 또는 아연 합금 상에 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항 기재의 처리 용액으로 화성 처리하여 형성된 흑색의 6가 크롬이 없는 화성 피막을 가지는 아연 또는 아연 합금 피복 금속.
연구과제 타임라인
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이 특허에 인용된 특허 (4)
[미국]
Trivalent chromium passivate solution and process |
Huvar Robert J. (Ann Arbor MI)
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