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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-7016281 (2008-07-03) |
공개번호 | 10-2008-0075543 (2008-08-18) |
등록번호 | 10-1088428-0000 (2011-11-24) |
국제출원번호 | PCT/US2006/046424 (2006-12-06) |
국제공개번호 | WO2007067551 (2007-06-14) |
번역문제출일자 | 2008-07-03 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020087016281 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-11-04) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
포토레지스트 가스 방출 현상의 영향을 감소시키는 기술들이 개시된다. 한 가지 특정한 예시적인 실시예에 있어서, 상기 기술들은 이온 주입기 내에서 포토레지스트 가스 방출 현상의 영향을 감소시키는 장치로서 실현될 수 있다. 상기 장치는 엔드 스테이션과 상방향 빔라인 컴포넌트 사이에 위치한 편류 튜브를 포함할 수 있다. 상기 장치는 또한 상기 편류 튜브와 상기 엔드 스테이션 사이에 제1 가변 개구를 포함할 수 있다. 상기 장치는 상기 편류 튜브와 상기 상방향 빔라인 컴포넌트 사이에 제2 가변 개구를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 가변
이온 주입기 내의 포토레지스트 가스 방출 현상의 영향들을 감소시키기 위한 장치에 있어서,엔드 스테이션(end-station)과 상방향 빔라인 컴포넌트(upstream beamline component) 사이에 위치한 편류 튜브(drift tube);상기 편류 튜브와 상기 엔드 스테이션 사이의 제1 가변 개구(variable aperture); 및상기 편류 튜브와 상기 상방향 빔라인 컴포넌트 사이의 제2 가변 개구를 포함하며, 상기 제1 가변 개구 및 상기 제2 가변 개구는 차동 펌핑(differential pumping)을 원활하게
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